一種鈷鑭共摻雜可見(jiàn)光響應(yīng)BiVO4光電極及其制備方法,屬于納米
功能材料領(lǐng)域。步驟:1)在溶解有碘化鉀、硝酸鉍的水溶液中加入對(duì)苯醌、乙醇充分?jǐn)嚢瑁?)以上述溶液為電解液,電沉積5~15min,可在導(dǎo)電襯底上沉積得到鉍氧碘(BiOI)薄膜;3)再將乙酰丙酮氧釩溶于二甲基亞砜中,加入適量的鈷源、鑭源攪拌混合均勻;4)移取上述混合有釩源、鈷源和鑭源的二甲基亞砜溶液均勻涂覆于鉍氧碘(BiOI)薄膜上;5)轉(zhuǎn)移至馬弗爐中以400?550℃溫度煅燒1~2h;6)取出樣品并將其浸泡于氫氧化鈉溶液中30?60min,清洗、干燥,得到鈷鑭共摻釩酸鉍(Co/La?BiVO4)納米多孔電極。優(yōu)點(diǎn):鈷鑭元素共摻能有效增強(qiáng)BiVO4薄膜的可見(jiàn)光響應(yīng),得到了更佳的光
電化學(xué)制氫性能。
聲明:
“鈷鑭共摻雜可見(jiàn)光響應(yīng)BiVO4光電極及其制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)