本發(fā)明的目的在于提供一種蒙脫石基光催化材料及其制備方法,涉及一種新型礦物基光催化
復合材料及其制備方法,蒙脫石基光催化復合材料以蒙脫石為基材,其上負載有C
3N
4,其特征在于,所述的蒙脫石為層間陽離子為Na
+或者Ca
2+,粒徑為2mm以下。其制備方法為:將蒙脫石先清洗預處理后烘干研磨至40mm以下,稱取適量蒙脫石放入十六烷基三甲基溴化銨和三聚氰胺的溶液中,混合、攪拌、靜置、離心后得到蒙脫石基復合材料漿體;再通過烘干、研磨后得到的原材料在550℃馬弗爐中燒結4個小時得到了蒙脫石基光催化復合材料。本發(fā)明制備的蒙脫石基光催化復合材料對有機污染物良好的吸附性能。
聲明:
“蒙脫石基光催化復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)