本發(fā)明公開了一種可控合成Ag@ZIF?8納米
復合材料的微流控
芯片的制備方法。本發(fā)明的特征在于,所述微流控芯片設置有ZIF?8微液滴形成區(qū),ZIF?8多面體混合反應區(qū),Ag@ZIF?8微液滴形成區(qū),Ag@ZIF?8納米復合材料混合反應區(qū),實現(xiàn)了微流控芯片對納米復合材料合成的有效控制。合成反應在微流控通道內多級分步進行,首先,ZIF?8多面體在室溫條件下于微流控通道內制備;然后,在紫外光照條件下,將Ag納米顆粒負載于ZIF?8多面體表面。本發(fā)明設計的微流控芯片結構優(yōu)化,操作方便,實現(xiàn)了多級分步進料,能夠合成分散性好,尺寸大小均勻的納米復合材料。另外,通過改變反應溶液的濃度、微流控管道的內徑尺寸、反應溶液在微流控管道內的流速、紫外燈波長和紫外燈光照時間實現(xiàn)對Ag@ZIF?8納米復合材料形貌尺寸的調控。
聲明:
“可控合成Ag@ZIF-8納米復合材料的微流控芯片的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)