本發(fā)明公開了一種具有光降解有機有毒氣體多級納米復合材料的制備方法，其包括，多孔層狀納米蒙脫土制備：蒙脫土經(jīng)機械粉碎法及氣流法粉碎至平均粒徑50～200nm；納米復合材料初步制備：將所述蒙脫土與鈦系光觸媒材料低溫下復合，得到復合物，將所述復合物加入水或醇中，低溫反應，之后加入氮源或碳源進行反應，得到初級納米復合材料；多級納米復合材料改性：將所述初級納米復合材料降溫后加入改性劑進行改性，所述改性劑占復合物/水或醇/氮源或碳源體系質量之和的0.2～2％；所述改性劑包括丙三醇或三乙醇胺。