一種方法提供用于光電器件的基于GO:NiO
x納米
復(fù)合材料的膜。該方法包括通過石墨的氧化來制備在第一醇溶劑中的GO溶液,通過溶劑熱方法制備在第二醇溶劑中的NiO
x溶液GO,通過將GO溶液和NiO
x溶液共混來進(jìn)行將NiO
x修飾到GO納米片結(jié)構(gòu)(NS)上,以獲得:NiO
x溶液,和通過使用GO:NiO
x溶液來形成基于GO:NiO
x納米復(fù)合材料的膜。
聲明:
“作為空穴傳輸層的氧化鎳修飾的氧化石墨烯納米復(fù)合材料和制造其的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)