基于非對稱金屬光柵結(jié)構(gòu)的雙頻可調(diào)磁共振人工復(fù)合材料，其特征在于：選擇石英基片 并將表面拋光，在其表面蒸鍍SiO2膜；在SiO2膜表面蒸鍍鉻膜，在鉻膜上涂覆光刻膠層；采 用電子束光刻方法，在光刻膠上制備介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)；采用濕法腐蝕技術(shù)，將光刻膠作為掩模， 腐蝕裸露鉻膜；采用干法腐蝕技術(shù)，將鉻膜作掩模，在SiO2膜上刻蝕介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu)，去除鉻 膜；采用側(cè)向真空沉積技術(shù)，在SiO2光柵結(jié)構(gòu)一側(cè)側(cè)向沉積厚度h金屬層；同樣在SiO2光柵 結(jié)構(gòu)另一側(cè)沉積相同厚度的金屬層，形成頂部厚度2h，側(cè)壁寬度h的“Π”形金屬結(jié)構(gòu)，基于 非對稱金屬光柵結(jié)構(gòu)的雙頻可調(diào)磁共振人工復(fù)合材料制作完成。本發(fā)明具有制作簡便，單 層損耗小，單層正入射以及雙頻的特性，在磁共振、近場光學(xué)、隱身材料等領(lǐng)域具有啟 示的意義以及很大的應(yīng)用前景。