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原位生成硫化鉍/蒙脫石插層復(fù)合材料的制備方法

863   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:33:04
本發(fā)明提供了一種原位生成硫化鉍/蒙脫石插層復(fù)合材料的制備方法,以無(wú)水硝酸鉍和硫脲為原料,將其溶解后,向其中加入鈉基蒙脫石,攪拌均勻,然后確保溶液中無(wú)鉍離子后,離心出沉淀物,將沉淀物微波處理,最后離心、洗滌、烘干即可。本發(fā)明利用鉍的陽(yáng)離子行絡(luò)合物作為硫化鉍的前驅(qū)體,能使鉍最大限度的進(jìn)入到蒙脫石層間;本發(fā)明利用蒙脫石的特性,可以化學(xué)吸附陽(yáng)離子,從而使陽(yáng)離子能規(guī)則的排列,所以微波輻射加熱后,硫化鉍也會(huì)規(guī)則的排列在蒙脫石層間。本發(fā)明方法可以使得納米硫化鉍均勻的分散。由于蒙脫石(001)晶面起到了,限制硫化鉍生長(zhǎng)的作用,所以生成的納米硫化鉍有特定的形狀。
聲明:
“原位生成硫化鉍/蒙脫石插層復(fù)合材料的制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)
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