本實用新型提供了一種化學氣相沉積裝置,包括:化學氣相沉積室,氣體供給系統(tǒng);反應氣體導流裝置,與氣體供給系統(tǒng)和化學氣相沉積室分別連通;包括導氣管,所述導氣管包括進氣導管和出氣導管;所述出氣導管位于樣品放置室中,所述出氣導管沿氣流方向的末端封閉,管壁上設置導氣孔;等離子體發(fā)生器和/或加熱裝置;真空系統(tǒng),與化學氣相沉積室連通。所述化學氣相沉積裝置能夠很好的將反應氣均勻的擴散到樣品上,提高
復合材料的均勻性,同時有效提升反應氣的利用率,有利于提高生產(chǎn)效率、降低成本,利用其制備得到的包覆硅的碳顆粒復合材料具有高容量、高首次效率及長壽命等特點。
聲明:
“化學氣相沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)