本發(fā)明提供一種激光沉積設(shè)備,包括激光源、第一反射鏡、第二反射鏡、第一分光鏡、第二分光鏡、真空室、三個用于固定不同的源材料靶材的第一固定平臺、用于沉積
復(fù)合材料的基片以及三個光通開關(guān);所述第一固定平臺以及所述基片均設(shè)置于所述真空室內(nèi);第一固定平臺分別與所述基片的預(yù)設(shè)區(qū)域相對,所述真空室設(shè)置有通光部,所述激光源與所述第一反射鏡的出光方向呈預(yù)設(shè)夾角,所述第二反射鏡、第一分光鏡、第二分光鏡均與所述第一反射鏡相互平行。
聲明:
“激光沉積設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)