一種直流磁控濺射正極極片,是在金屬基片上用直流磁控濺射技術(shù)沉淀一層鋰化合物和導(dǎo)電劑混合薄膜;基片為Al箔;鋰化合物為LiCoO2;導(dǎo)電劑為石墨或乙炔黑;其生產(chǎn)方法方法如下:1)將鋰化合物、導(dǎo)電劑和粘結(jié)劑按重量比90∶5∶5-60∶20∶20的比例混合,冷等靜壓成型,在100-200℃惰性氣氛中烘烤2-5小時;2)采用直流磁控濺射鍍膜設(shè)備在基片上沉淀薄膜,所用氣體為Ar氣,鍍膜室氣壓為0.1-10Pa,沉積電流為1-5mA/cm2,沉積時間為0.5-5小時;3)將所得
正極材料置入加熱爐中,在空氣氣氛、200-800℃溫度熱處理1-8小時,得到成品。本發(fā)明直流磁控濺射正極極片,采用粉末粘結(jié)靶材,熱處理溫度較低,可低至200℃,降低了生產(chǎn)成本,采用直流磁控濺射設(shè)備,濺射電流和功率可連續(xù)調(diào)節(jié),操作簡單,工藝重復(fù)性好,適合工業(yè)化生產(chǎn)。
聲明:
“磁控濺射正極極片” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)