本申請公開了一種半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備及其處理工藝,屬于廢水處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,其包括壓濾機、第一出料管以及回水裝置,第一出料管沿豎直方向開設(shè)有插孔,插孔內(nèi)插接有廢料盒,廢料盒遠(yuǎn)離壓濾機的一側(cè)開設(shè)有多個過濾孔,插孔的一側(cè)內(nèi)壁開設(shè)有儲存槽;儲存槽內(nèi)設(shè)有限位塊以及復(fù)位彈簧,限位塊滑移于儲存槽,限位塊上設(shè)有第一斜面,復(fù)位彈簧的一端固定連接于限位塊,復(fù)位彈簧的另一端固定連接于儲存槽的內(nèi)壁,廢料盒上開設(shè)有限位槽;第一出料管內(nèi)設(shè)有第一驅(qū)動組件;第一出料管的側(cè)壁開設(shè)有通孔。本申請具有能夠減少廢水中的濾渣通過回水裝置進(jìn)入到廢液收集池內(nèi)的可能性,從而能夠降低回水裝置中的水泵發(fā)生損壞的可能性。
聲明:
“半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備及其處理工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)