一種淺溝槽隔離工藝的監(jiān)測版圖,用于監(jiān)測淺溝槽隔離的工藝窗口,包括:復(fù)數(shù)組圖案用于監(jiān)測刻蝕工藝窗口,每一組圖案包括復(fù)數(shù)個間隔分布的線條圖形和開口圖形,線條圖形用于形成有源區(qū),開口圖形用于形成淺溝槽隔離;一種應(yīng)用所述監(jiān)測版圖監(jiān)測淺溝槽隔離工藝窗口的方法,包括:將所述監(jiān)測版圖通過光刻刻蝕轉(zhuǎn)移半導(dǎo)體基底中形成溝槽,在所述溝槽中沉積介質(zhì)層并進(jìn)行平坦化,對刻蝕、沉積、平坦化后的半導(dǎo)體基底分別切割,形成斷面,可監(jiān)測淺溝槽隔離工藝刻蝕、沉積、化學(xué)機(jī)械研磨的工藝窗口。