一種襯底處理設(shè)備,其在部分地形成于腔室中的化學溶液處理室中進行化學溶液處理。在該化學溶液處理的過程中,該襯底處理設(shè)備密封該化學溶液處理室,測量該化學溶液處理室中的壓力,并且根據(jù)測量值控制化學溶液處理室中的壓力。無論該襯底處理設(shè)備所處的大氣壓如何,該化學溶液處理室能夠受控至預(yù)定的壓力。該襯底處理設(shè)備還允許對最小需求量的區(qū)域進行有效的壓力控制。
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