本發(fā)明關于一種清洗沉積噴出頭的方法與設備,可應用于半導體的化學氣相沉積機臺中,藉由機臺抽真空以除去沉積噴出頭的外蓋與其表面的塵粒;再將沉積噴出頭的外蓋與沉積噴出頭由機臺上拆下,并清除機臺上用以裝載沉積噴出頭的區(qū)域表面的塵粒;將沉積噴出頭浸入化學反應槽以超音波震蕩;將沉積噴出頭浸入溢流的水槽,并監(jiān)測水阻值;將沉積噴出頭浸入回流的異丙醇槽;之后以烘干系統(tǒng)烘干沉積噴出頭;以完成清洗沉積噴出頭的程序。
聲明:
“新式清洗沉積噴出頭的方法與設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)