本發(fā)明屬于光學(xué)測量技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于節(jié)距移動的測量基底及其制備方法、測量方法。測量基底上設(shè)置有測量標記，測量標記包括多個標記單元并構(gòu)成周期性的第一光柵結(jié)構(gòu)；每個標記單元包括2n個標記線條并構(gòu)成非對稱型的第二光柵結(jié)構(gòu)。制備方法包括設(shè)計測量模板、光刻、犧牲層掩膜、沉積、刻蝕。用于節(jié)距移動的測量方法包括制備測量基底，采集并根據(jù)測量基底產(chǎn)生的+1階、?1階衍射光的光強，獲得節(jié)距移動的大小。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中針對節(jié)距移動的測量手段分辨率較低、測量速度較慢的問題，能夠?qū)崿F(xiàn)高速、無損測量，提高測量的靈敏度和分辨率。