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CVD（G）系列高溫真空氣氛管式爐專門設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫，優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱，優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛，氣體采用浮子流量計流量計控制。進口單回路智能溫度控制儀控制，有效的實現(xiàn)溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長等特點，是理想的科研設備。
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2025年03月25日 ~ 27日 
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年03月28日 ~ 30日 
2025年04月11日 ~ 13日 
2025年04月24日 ~ 27日 
