真空機組 257     

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GZK-101是一套低真空機組，極限真空度可達10?3 Torr，內(nèi)部配有雙旋機械泵TRP-12，抽氣速率4L/s，極限壓強4.0×10?2 Pa，系統(tǒng)實測壓強≤0.5 Pa。該機組接口為KF-D25，配備高真空法蘭、電阻真空計DGR-52及連接管道接頭等。其在冶金領域應用廣泛，可用于金屬熔煉、真空熱處理等工藝，為金屬材料的加工和研究提供穩(wěn)定的真空環(huán)境。

萊寶高真空泵機組 274     

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SV300B+LVT1001萊寶高真空泵機組是一款高效、穩(wěn)定的真空設備，廣泛應用于冶金領域。其快速抽速和低能耗的特點使其能夠高效地制造真空環(huán)境，從而在金屬熔煉、鋼水脫氣、真空燒結(jié)、真空熱處理等冶金工藝中發(fā)揮重要作用。該設備的低噪音和低振動設計減少了運行過程中的干擾，提高了操作的穩(wěn)定性。此外，其緊湊的結(jié)構(gòu)和靈活的擺放位置使其能夠適應不同的冶金生產(chǎn)環(huán)境。在真空感應熔煉（VIM）和真空電弧重熔（VAR）等工藝中，該泵機組能夠提供穩(wěn)定的高真空環(huán)境，確保金屬和合金的純凈度。

雙極油封旋片式真空泵 242     

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DRV10雙極油封旋片式真空泵是一款高效可靠的真空設備，廣泛應用于冶金領域。其雙級旋片設計能夠快速達到高真空度，極限真空可達5Pa，抽速為9.9m3/h，適用于金屬熔煉、真空熱處理等工藝，可有效去除金屬中的氣體雜質(zhì)，提高材料純度和性能。該泵采用強制供油方式，確保在大氣壓附近連續(xù)排氣運轉(zhuǎn)時的穩(wěn)定性。此外，其內(nèi)置油逆止閥和進氣閥防返油機構(gòu)，可防止泵油回流，保護真空環(huán)境。體積小、重量輕、噪音低、振動小，結(jié)構(gòu)簡單，維護保養(yǎng)方便，適合在冶金實驗室及生產(chǎn)線上使用。

微型無油真空泵 179     

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AP-1400V微型無油真空泵是一款體積小巧、操作簡單且噪音小的真空設備，適用于抽除特定密封容器內(nèi)的氣體，使其獲得一定真空度。在冶金領域，該真空泵可用于實驗室中的金屬樣品處理，例如在真空環(huán)境下對金屬進行脫氣、凈化或保護氣氛下的熱處理等操作。其最大真空度可達-700mmHg（-92Pa），最大氣流量為7.2m3/h，能夠滿足多種實驗需求。

高真空系統(tǒng) 235     

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德國萊寶SV300B與國產(chǎn)羅茨BXJ1000組成的高真空系統(tǒng)，可配套MSK-DZF-H2190雙層高真空烘箱使用。該系統(tǒng)在冶金領域具有重要應用價值，其極限真空度可達10Pa（空載狀態(tài)），單腔體從常壓抽至10Pa的時間不超過10分鐘（空載狀態(tài)），真空泄露率（冷機空載狀態(tài)）在抽至極限真空后關閉閥門，保持24小時，真空度下降量絕對值不超過500Pa。這種高效的真空系統(tǒng)能夠為冶金過程中的高溫爐內(nèi)氣體抽空、金屬熔煉處理以及真空熱處理等工藝提供可靠的真空環(huán)境，確保金屬材料的質(zhì)量和純度。

1100℃迷你型箱式爐(1L) 215     

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KSL-1100X-S是一款1100℃迷你型箱式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。該設備采用電阻絲加熱元件和K型熱電偶，配備30段可編程溫度控制器，最高溫度可達1100℃，連續(xù)工作溫度為1000℃，控溫精度為±1℃。爐膛采用日制高質(zhì)量氧化鋁微晶體纖維材料，具有體積小、重量輕、溫場均衡、升溫速率快、節(jié)能等優(yōu)點。其下拉式爐門結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出，同時設有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體環(huán)境下的實驗。此外，該設備還可放置在手套箱內(nèi)，在真空和可控氣氛條件下燒結(jié)樣品。

1200℃分體式微型箱式爐 285     

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KSL-1200X-J-F是一款通過CE認證的1200℃分體式微型箱式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐膛尺寸為150mm×155mm×180mm（4.2L），采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，表面涂有高溫氧化鋁涂層，能夠提高加熱效率、保持爐膛潔凈，并延長設備使用壽命。該設備配備PID溫控系統(tǒng)，可設置30段升降溫程序，最高工作溫度可達1200℃。其獨特的分體式設計使其能夠與KF40饋通連接，特別適合在手套箱中使用。

1200℃小型水平真空坩堝爐(40L) 283     

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VBF-1200X-H8是一款通過CE認證的1200℃小型水平真空坩堝爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其加熱絲均勻分布在石英腔體外側(cè)，腔體尺寸為Φ200×340mm，水平安裝，配備專用水冷法蘭及針閥密封。使用雙旋片機械泵或分子泵機組時，真空度可達10?2～10?? Torr。該設備特別適合在真空或各種氣氛條件下對金屬、非金屬及其他化合物材料進行燒結(jié)、融化和分析，是高等院校、科研院所及工礦企業(yè)實驗室的理想設備。在冶金領域，VBF-1200X-H8可用于金屬材料的高溫燒結(jié)、合金的熱處理以及金屬氧化物的還原等實驗。

1200℃小型井式爐(9L) 291     

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VBF-1200X是一款1200℃小型立式箱式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。該設備采用進口電阻絲作為加熱元件，配備K型熱電偶和30段可編程溫度控制器，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。其上開式爐門結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出。該爐具有體積小、重量輕、溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快以及節(jié)能等優(yōu)點，特別適合高校、科研院所和工礦企業(yè)進行高溫燒結(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測等實驗。在冶金領域，VBF-1200X可用于研究金屬材料的熱處理工藝、相變行為以及合金的微觀結(jié)構(gòu)優(yōu)化。

1600℃實驗型微波箱式爐 181     

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KSL-1600X-MW6是一款1600℃的實驗型微波箱式爐，專為快速加熱和燒結(jié)實驗設計，加熱速率可達60℃/min。該設備適用于電子陶瓷、磁性材料、鋰離子電池正極材料及其他無機氧化物粉體的燒結(jié)制備。在冶金領域，KSL-1600X-MW6可用于研究金屬氧化物的還原、金屬粉末的燒結(jié)以及新型合金材料的開發(fā)，其快速加熱特性能夠顯著提高實驗效率，為材料的高溫合成和性能優(yōu)化提供重要支持。

1800℃大型箱式爐 287     

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KSL-1800X-GX是一款專為冶金及材料科學實驗設計的1800℃大型箱式爐，采用下裝載方式進料，裝載盤承重可達300kg，能夠?qū)Υ笈繕悠吩诳諝饣蜓鯕猸h(huán)境下進行熱處理。該設備具有雙層殼體結(jié)構(gòu)并帶有風冷系統(tǒng)，保證殼體表面溫度不過高。其爐膛采用高純氧化鋁纖維材料，耐火度可達2200℃，加熱元件為硅鉬棒。在冶金領域，KSL-1800X-GX可用于金屬材料的高溫燒結(jié)、退火、回火等熱處理工藝，特別適合對大型工件或大批量樣品進行處理。

1100℃電動升降立式爐 201     

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VBF-1200X-E8是一款通過CE認證的1100℃可升降立式氣氛管式爐，專為真空或各種氣氛條件下的熱處理設計。其石英腔體尺寸為Φ200×340mm，加熱絲分布在腔體外側(cè)，底部配備升降臺，可自由升降，采用SS水冷法蘭和針閥密封。使用雙旋片機械泵或分子泵機組時，真空度可達10?2～10?? Torr。該設備特別適合對6英寸以下的樣品進行熱處理，廣泛應用于冶金領域，例如對金屬材料進行退火、氧化還原處理等，能夠滿足多種材料在高溫環(huán)境下的實驗需求。

1200℃箱式氣氛爐 290     

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KSL-1200X-H2是一款通過CE認證和TUV/UL認證的1200℃箱式氣氛爐，專為氫氣環(huán)境下的熱處理設計。其爐腔采用五面加熱設計，確保溫場均勻，最高溫度可達1200℃，連續(xù)工作溫度為1100℃。該設備配備Kathal公司的Fe-Cr-Al合金加熱元件，爐膛尺寸為400×400×400mm，具有真空密封和水冷系統(tǒng)，確保操作安全。爐頂安裝有氫氣自動點火裝置，可自動點燃排除的氫氣，保障使用安全。此外，該設備還可在惰性或氧氣環(huán)境下對材料進行熱處理，特別適合于熒光粉和鈦合金等材料的熱處理。

1200℃帶有溫度校準系統(tǒng)的開啟式管式爐 201     

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OTF-1200X-S50-LVT是一款通過CE認證的小型開啟式管式爐，最高溫度可達1200℃，適用于冶金及材料科學實驗。該設備配備精密的真空測試儀表、真空泵和OMEGA測溫儀表，能夠精確測量燒結(jié)樣品的實際溫度。其控溫儀表可設置30段升降溫程序，控溫精度為±1℃，確保實驗過程的精確控制。在冶金領域，OTF-1200X-S50-LVT可用于金屬材料的高溫真空處理、合金的熱處理以及材料在不同氣氛下的性能研究，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。

氣體可流動高溫高壓管式爐 176     

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OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款專為冶金及材料科學實驗設計的高溫高壓管式爐，爐體配備三個獨立溫區(qū)，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。該設備配備氣體控制柜，可在升降溫過程中保持爐管內(nèi)氣壓恒定，特別適用于氧化物的處理，能夠維持穩(wěn)定的氧分壓。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，最高耐溫可達1100℃，特別適合對氧化物超導線和氧化物陶瓷進行熱處理。這種設計使其在冶金領域中可用于研究氧化物材料的高溫合成、熱處理及性能優(yōu)化，為開發(fā)高性能陶瓷材料和超導材料提供重要的實驗支持。

800℃超高真空管式爐 182     

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OTF-1200X-60HV是一款通過CE認證的800℃超高真空管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用直徑60mm的SS-310S不銹鋼管，法蘭接口為KF25接口，采用CF法蘭，真空度可達10?? Torr。該設備配備PID 30段程序化控溫系統(tǒng)，控溫精度為±1℃，能夠滿足高溫真空環(huán)境下的精確控溫需求。在冶金領域，OTF-1200X-60HV可用于金屬材料的高溫真空處理，例如退火、氧化還原反應等，有助于研究材料在極端條件下的性能變化。

磁場真空退火爐 172     

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GSL-1200X-MH4是一款專為冶金及磁性材料研究設計的磁場真空退火爐，最高溫度可達1200℃。該設備配備水冷層和真空絕緣層，能夠在磁場中對磁性材料進行退火處理，顯著提升材料的磁性能。其獨特的設計使其在冶金領域中可用于研究磁性合金的退火工藝、優(yōu)化材料的磁性能和微觀結(jié)構(gòu)，為高性能磁性材料的開發(fā)提供重要的實驗支持。

熱重分析真空氣氛管式爐 149     

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OTF-X-TGA是一款具有TGA熱重分析功能的立式管式爐，最高溫度可達1700℃（可定制），特別適用于冶金及材料科學中的高溫實驗。與傳統(tǒng)TGA裝置相比，該設備可裝載超過100g的樣品，提供更準確的工業(yè)級實驗結(jié)果。它能夠在真空或氣氛保護環(huán)境下（包括H?環(huán)境）進行熱重實驗，研究材料加工過程中的相變。此外，OTF-X-TGA還可連接氣體分析裝置，實時監(jiān)測加熱過程中氣體成分和重量的變化。這種功能對于冶金領域中研究金屬材料的氧化、還原過程以及合金的相變行為具有重要意義。

1700℃帶鉸鏈式法蘭管式爐 291     

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GSL-1700X-HNG是一款通過CE認證的1700℃高溫管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用高純剛玉材質(zhì)，具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性和抗腐蝕性，最高溫度可達1700℃，特別適合用于高溫燒結(jié)各種金屬、合金及陶瓷材料。設備配備折疊式法蘭，使放樣和取樣更加便捷，同時采用30段升降溫程序控溫，控溫精度為±1℃，能夠滿足復雜的冶金工藝需求，為高性能材料的開發(fā)和研究提供可靠的實驗支持。

1100℃Φ50管式高壓爐 164     

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OTF-1200X-60UV是一款通過CE認證的高溫高壓管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用鎳基合金鋼管，具有優(yōu)異的抗氧化性能，可在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣，最高溫度可達1100℃，最大真空度可達10?? Torr。這種設計使其特別適合用于冶金領域中的高溫氧化實驗、合金熱處理以及材料在極端條件下的性能研究，為開發(fā)高性能金屬材料和復合材料提供可靠的實驗支持。

1700℃小型4通道管式爐 362     

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GSL-1700X-MGI-4是一款專為高通量熱處理實驗設計的小型4通道管式爐，爐管直徑為Φ25mm，最高溫度可達1700℃。該設備特別適用于合金和陶瓷的熱處理，能夠高效完成多種材料的高溫實驗。其多通道設計可同時處理多個樣品，顯著提高實驗效率，是材料基因計劃中探索材料相圖和優(yōu)化合金性能的理想工具。在冶金領域，該設備可用于研究合金的熱處理工藝、相變行為以及陶瓷材料的燒結(jié)特性，為高性能材料的研發(fā)提供重要支持。

1100℃ 十溫區(qū)高壓管式爐 267     

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OTF-1200X-X-85GF是一款專為高溫高壓材料合成設計的1100℃十溫區(qū)管式爐，爐管采用Ni基合金鋼制作，能夠在氧或惰性氣體環(huán)境下承受高溫高壓（最高溫度1000℃）。該設備配備壓力和氣體流量控制系統(tǒng)，確保升溫和降溫過程中爐管內(nèi)壓力穩(wěn)定。其獨特的十溫區(qū)設計可實現(xiàn)精確的溫度控制，特別適用于制備Fe基超導材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金領域，該設備可用于研究新型材料的高溫合成機制和性能優(yōu)化，為高性能材料的開發(fā)提供有力支持。

1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐 147     

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OTF-1200X-80-HPV-III-GF是一款1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐，專為高溫高壓及高真空條件下的冶金實驗設計。其爐管采用鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和耐高壓性能，最高工作溫度可達1100℃，在此溫度下可承受的最大壓力為4MPa。三個獨立控制的加熱區(qū)能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制，滿足復雜的冶金工藝需求。該設備適用于金屬材料的高溫合成、熱處理以及在高真空或高壓氣氛下的性能研究，為冶金領域提供了一個高效、可靠的實驗平臺。

帶有光學窗口的高溫高壓爐 163     

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OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，專為高溫高壓環(huán)境下的光學氣體分析實驗設計。其爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和抗氧化性能，最高工作溫度可達1100℃。兩端法蘭上安裝的石英窗口能夠允許各種波長的光通過整個爐管，便于實時監(jiān)測實驗過程中的光學變化。這種設計特別適合冶金領域中對金屬材料在高溫高壓條件下的反應過程進行光學分析，為研究材料的相變、氧化還原行為等提供重要支持。

1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐 154     

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OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，專為冶金領域設計。其爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有高蠕變強度和抗氧化性，可承受最高溫度1100℃，在此溫度下最大壓力為3MPa。該設備特別適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進行熱處理，也可用于水浴法制備材料。法蘭上安裝的電磁閥可在壓力超過設定值時自動排氣，確保實驗安全。其雙溫區(qū)設計能夠滿足復雜的冶金工藝需求，為金屬材料的高溫高壓研究提供可靠的實驗平臺。

1600℃高溫高壓燒結(jié)爐 259     

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GSL-1600-HP是一款專為冶金領域設計的高溫高壓氣氛燒結(jié)爐，最高溫度可達1600℃，最高壓力可達10MPa，能夠滿足高溫高壓下材料的燒結(jié)需求。其大型爐腔和高壓力設計使其特別適合用于燒結(jié)高性能金屬陶瓷、硬質(zhì)合金等材料，為冶金研究和生產(chǎn)提供可靠的高溫高壓環(huán)境，是開發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化燒結(jié)工藝的理想設備。

氫爆爐 300     

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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標準的氫氣管式爐，專為冶金領域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設計。該設備配備5個獨立溫控系統(tǒng)的溫區(qū)，爐管采用310不銹鋼材質(zhì)，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設備內(nèi)置3M氫氣探測器，一旦檢測到氫氣泄漏，將自動關閉進氣閥和出氣閥，確保實驗過程的安全。其最高溫度可達1200℃，適用于對氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想設備。

10英寸氫氣管式爐 243     

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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標準的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領域中的Ti合金退火和對氧敏感材料的熱處理設計。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設計有3個加熱區(qū)，最高溫度可達1250℃。該設備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進行熱處理，特別適用于對材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴格要求的冶金實驗，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長爐 265     

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GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長設計的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達1100℃。其獨特的雙管設計通過CVD方法在箔材上實現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設備不僅適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開發(fā)高性能復合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 262     

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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護環(huán)境下實現(xiàn)樣品的快速移動。該設備最大升溫速率達到50℃/s，最大冷卻速率達到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務。此外，它還可通過HPCVD方法生長二維晶體，一個加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領域中二維材料的生長和金屬薄膜的制備。