真空提純爐可用于
碳納米管料的連續(xù)式高溫石墨化提純,并可實(shí)現(xiàn)高溫法與化學(xué)法相結(jié)合的提純處理。適用于
新能源汽車、半導(dǎo)體、
新材料等等多種領(lǐng)域。
真空提純爐的用途:
適用于電池
負(fù)極材料、電子陶瓷、玻璃、晶體、
粉末冶金、
納米材料、金屬零件、電子元器件、
石墨烯、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理,材料在惰性氣氛環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)。
真空提純爐的特點(diǎn):
可用于石墨粉料的連續(xù)式高溫石墨化提純,并可實(shí)現(xiàn)高溫法與化學(xué)法相結(jié)合的提純處理。
可實(shí)現(xiàn)高溫下連續(xù)式進(jìn)料和出料,減少了能源消耗,縮短生產(chǎn)周期;
采用電阻或感應(yīng)加熱,溫度可達(dá)2850℃以上;
采用高溫法和化學(xué)法相結(jié)合的提純方式,可滿足高純度處理要求;
采用高效的過濾系統(tǒng),能有效捕集提純過程中產(chǎn)生的粉塵、腐蝕性氣體等;
可實(shí)現(xiàn)高溫下連續(xù)式進(jìn)料和出料,減少了能源消耗,縮短生產(chǎn)周期。
真空提純爐的技術(shù)參數(shù):