二維硫化鉬生長設備
簡單介紹:
二維硫化鉬生長設備由預熱爐、反應爐,真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)以及軌道支架五部分組成。二維硫化鉬生長設備前端配的預熱爐能夠用來預熱蒸發(fā)固態(tài)源,反應爐能夠提供反應所需的熱環(huán)境。
詳情介紹:
該二維材料生長設備由預熱爐、反應爐,真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)以及軌道支架五部分組成。前端配的預熱爐能夠用來預熱蒸發(fā)固態(tài)源,反應爐能夠提供反應所需的熱環(huán)境。兩臺電爐均安裝在滑軌支架上,可以實現快速升降溫,提升實驗效率。爐管內配有熱電偶測溫,可以準確控制反應條件。所有電路均采用高清全彩觸摸屏控制,操作簡單直觀易于上手。
供氣系統(tǒng)采用兩路質量流量計,流量控制精密,操作簡單直觀;真空系統(tǒng)采用高品質雙極旋片
真空泵,真空度可達1.0E-1Pa,完全滿足CVD晶體生長實驗的需要。
二維硫化鉬生長設備用途:
本產品主要應用于二維材料的CVD法生長實驗,尤其適合二維硫化鉬的制備。
二維硫化鉬生長設備技術參數: