GKI-11真空鉬絲爐
GKI-11真空鉬絲爐是一種高性能的冶金設備,專門用于在真空或氣氛保護條件下對物料進行無污染的高溫熱處理。該設備采用高溫鉬片作為加熱體,配備鉬隔熱屏,能夠在高真空度(極限真空度小于6.67×10?? Pa)和高溫(最高加熱溫度1600℃)環(huán)境下工作。其有效加熱區(qū)域為直徑100mm×100mm,溫度檢測方式包括B型熱電偶或雙比色紅外測溫儀,確保溫度測量的準確性和可靠性。
產(chǎn)品描述:
GKI-11真空鉬絲爐在真空或氣氛保護情況下對物料進行無污染熱處理,可以在氮氣、氬氣,"氫氣等氣氛燒結。主要應用于高溫氣氛燒結、 高溫真空燒結、透明陶瓷材料燒結等領域。
技術參數(shù):
1.型號:VMF-16-18
2.最高功率:18KW
3.最高加熱溫度:1600 度
4.加熱體:高溫鉬片
5.保溫層:鉬隔熱屏
6.有效加熱區(qū)域:Dia100x100mm
7.溫度檢測方式:B 型熱電偶或雙比色紅外測溫儀8.腔真空度(分子泵機組):<6.67X10 ¥4 Pa