高真空噴鑄設(shè)備
高真空噴鑄設(shè)備是冶金領(lǐng)域中一種專(zhuān)門(mén)用于制備非晶塊體材料的先進(jìn)裝置。這種設(shè)備通過(guò)在高真空環(huán)境下進(jìn)行熔煉和噴鑄，能夠生產(chǎn)出具有獨(dú)特物理和化學(xué)性質(zhì)的非晶材料，這些材料在磁性、強(qiáng)度和耐腐蝕性方面往往優(yōu)于傳統(tǒng)晶體材料。
設(shè)備的主要組成包括高真空獲得與測(cè)量系統(tǒng)、熔煉及噴鑄系統(tǒng)、快速冷卻系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等四部分。高真空機(jī)組采用分子泵及機(jī)械泵組成，確保了極限真空度達(dá)到≤8.0×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa?L/s，為非晶材料的制備提供了理想的高真空環(huán)境。熔煉系統(tǒng)采用高溫發(fā)熱體，最高加熱溫度可達(dá)1600℃，能夠滿足多種金屬及合金的熔煉需求。
快速冷卻系統(tǒng)是高真空噴鑄設(shè)備的核心，它可以根據(jù)需要選擇不同的冷卻方式，如水冷、液氮、低溫合金池等，以實(shí)現(xiàn)非晶材料的快速凝固。這種快速冷卻技術(shù)是制備非晶材料的關(guān)鍵，它能夠抑制晶體生長(zhǎng)，從而獲得非晶結(jié)構(gòu)。
電氣控制系統(tǒng)具有多種報(bào)警功能，能及時(shí)提示故障情況，保障設(shè)備安全運(yùn)行。主要技術(shù)參數(shù)包括定制的真空室尺寸、最大裝料量0.2~5Kg、供電電源380V 50Hz（三相五線制）、供電電氣容量30KVA、進(jìn)水排管徑DN25和工作水壓0.2Mpa等，這些參數(shù)確保了設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行和高效生產(chǎn)。
在冶金行業(yè)中，高真空噴鑄設(shè)備的應(yīng)用不僅提高了材料的性能，還拓寬了材料的應(yīng)用領(lǐng)域。通過(guò)這種設(shè)備制備的非晶材料在變壓器、電機(jī)、傳感器等高端領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景，是推動(dòng)冶金科技進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級(jí)的重要裝備。
一、 設(shè)備主要功能及組成
1. 該設(shè)備主要用于制備非晶塊體材料。
2. 設(shè)備主要由高真空獲得與測(cè)量系統(tǒng)、熔煉及噴鑄系統(tǒng)、快速冷卻系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等四部分組成。
3. 高真空機(jī)組采用分子泵及機(jī)械泵組成。
4. 熔煉系統(tǒng)采用高溫發(fā)熱體，最高加熱溫度1600℃。
5. 冷卻系統(tǒng)可根據(jù)需要選擇不同方式，水冷、液氮、低溫合金池等。
6. 電氣控制系統(tǒng)具有多種報(bào)警功能，能及時(shí)提示故障情況，保障設(shè)備安全運(yùn)行。
二、 主要技術(shù)參數(shù)
1． 真空室尺寸：定制（雙層水冷）
2． 極限真空度：≤8.0×10-5Pa
3． 漏率：≤10-7 Pa?L/s
4． 最大裝料量：0.2~5Kg
5． 供電電源：380V 50Hz（三相五線制）
6． 供電電氣容量：30KVA
7． 進(jìn)水排管徑：DN25
8． 工作水壓：0.2Mpa
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河南 - 鄭州
2025年03月21日 ~ 23日
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