立式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)
立式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)是專為冶金及材料科學(xué)領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高端設(shè)備,廣泛應(yīng)用于外延片基座、晶體爐高溫耐材、熱彎模具、半導(dǎo)體坩堝、陶瓷基
復(fù)合材料等的表面涂層、基體改性及復(fù)合材料制備。設(shè)備采用先進(jìn)的控制技術(shù),能夠精密調(diào)控MTS流量和壓力,確保爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)極小。其全密閉沉積室密封效果好,抗污染能力強(qiáng),多通道工藝氣路設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)流場均勻,無沉積死角,沉積效果優(yōu)異。此外,設(shè)備配備多級高效尾氣處理系統(tǒng),能有效處理高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物,環(huán)境友好且安全可靠。最高溫度可達(dá)1500℃,溫控精度為±5℃,適配真空、CH?、H?、N?、Ar、BCI?、NH?、MTS等多種工藝氣氛,滿足復(fù)雜的冶金及材料制備需求。
核心參數(shù)
非金屬電熱元件:其他
金屬電熱元件:其他
燒結(jié)氣氛:真空
溫控精度:±5
最高溫度:1500
額定溫度:1500
產(chǎn)品描述:
立式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)可用于材料的表面涂層、基體改性、復(fù)合材料制備等
應(yīng)用范圍:
外延片基座、晶體爐高溫耐材、熱彎模具、半導(dǎo)體坩堝、陶瓷基復(fù)合材料等
技術(shù)特征
采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍小;
全密閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
多通道工藝氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
多級高效尾氣處理系統(tǒng),能有效處理高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物,環(huán)境友好;
可選配新設(shè)計(jì)的防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長,維修率極低;
使用工藝氣氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。
產(chǎn)品規(guī)格
配置選擇
結(jié)構(gòu)形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料
爐門鎖緊方式:手動(dòng)/自動(dòng)
爐殼材質(zhì):內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
保溫材質(zhì):碳?xì)?石墨氈/
碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈
加熱器、馬弗材質(zhì):石墨/CFC/金屬
熱電偶:K/N/C/S分度號