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> 非自耗電弧熔鑄爐(自由電?。?/p>
產(chǎn)品應(yīng)用:
用于熔煉金屬及金屬合金樣品,適合實(shí)驗(yàn)室、工廠用于材料研究、開發(fā)、質(zhì)量控制等。可在0.3-0.9Bar的高純氬氣保護(hù)環(huán)境下熔煉、合金化反應(yīng)性和高活性金屬材料。采用吸鑄法制備板狀或棒狀合金試樣;采用傾轉(zhuǎn)澆鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣。
技術(shù)參數(shù):
型號(hào) |
HVAM-B |
HVAM-D |
HVAM-5KG |
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真空 性能 |
極限真空度 |
6.67 x 10-4Pa |
6.67 x 10-4Pa |
6.67 x 10-4Pa |
壓升率 |
≤0.67Pa/H |
≤0.67Pa/H |
≤0.67Pa/H |
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抽氣系統(tǒng) |
分子泵+機(jī)械泵 |
分子泵+機(jī)械泵 |
分子泵+機(jī)械泵 |
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真空室 |
真空室 |
雙層水冷不銹鋼 |
雙層水冷不銹鋼 |
雙層水冷不銹鋼 |
水冷電弧槍 |
電動(dòng) |
電動(dòng)/手動(dòng) |
電動(dòng) |
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水冷銅坩堝熔煉工位 |
電動(dòng)旋轉(zhuǎn)水冷銅坩堝 5個(gè)150g,5個(gè)30g |
固定式水冷銅坩堝 四個(gè)50g |
可傾轉(zhuǎn)水冷銅坩堝 一個(gè)5KG(以Fe計(jì)算) |
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機(jī)械手 |
有 |
有 |
有 |
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傾轉(zhuǎn)澆注系統(tǒng) |
有 |
無 |
有 |
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吸鑄系統(tǒng) |
有 |
有(可選項(xiàng)) |
有(可選項(xiàng)) |
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磁攪拌工位 |
所有熔煉工位均有 |
有(數(shù)量可選) |
有 |
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熔煉電源 |
1250A |
630A |
1500A(三套) |
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設(shè)備尺寸(L×W×H,m) |
2×1.5×2 |
2×1.2×2 |
7×2×3.7 |
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設(shè)備特性1 |
1.電弧槍由電機(jī)驅(qū)動(dòng)升降,周向電動(dòng)自由擺動(dòng),采用波紋管密封保證了電弧槍運(yùn)動(dòng)時(shí)密封的可靠性;所有重要控制功能已整合到觸摸屏上、可確保安全、方便的操作; 2.機(jī)械手可用于原位翻轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移小樣品;3.無接觸的高頻引??; |
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設(shè)備特性2 |
1.水冷銅坩堝上熔煉工位容量及數(shù)量可按用戶需求定制; 2.熔煉澆鑄功能部件可手動(dòng)傾轉(zhuǎn)澆鑄,并可側(cè)向移動(dòng),保證在做多工位熔煉時(shí)無需拆卸此部件。 |
★設(shè)備自帶進(jìn)水分水器、回水回流器、閥門及管路;不配置水循環(huán)系統(tǒng);
★可選配水循環(huán)系統(tǒng):包括不銹鋼水箱、水泵、閥門及管路等;
★選型參考:HVAM-B:多工位多功能自動(dòng)型;HVAM-D多工位單功能型;HVAM-5KG:?jiǎn)喂の淮笕萘孔詣?dòng)型。