BC?光斑激光開(kāi)膜設(shè)備：

采用海目星自研光源激光技術(shù)作為底層架構(gòu)，利用通過(guò)激光在電池表面對(duì)掩膜進(jìn)行刻蝕，利用該技術(shù)實(shí)現(xiàn)高效背接觸電池(XBC)的圖形化生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)替代傳統(tǒng)光刻技術(shù)，快速、低損、高效去膜。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

整機(jī)采用工業(yè) PC 控制、模塊化柔性化編程設(shè)計(jì);

設(shè)備實(shí)現(xiàn)雙線供上/下料，操作方便;

滿足 AGV 雙層雙線同步上/下料，減少 AGV 對(duì)接需求及機(jī)臺(tái)數(shù)量 ;

根據(jù)客戶需求定制，實(shí)現(xiàn)無(wú)損、高產(chǎn)能、高精度、高效率 ;

高精度視覺(jué)定位，高速柔性機(jī)構(gòu)傳輸 ;

加工過(guò)程，硅片自動(dòng)傳輸 快速、低損、高效去膜;

除塵結(jié)構(gòu)內(nèi)部流場(chǎng)的最優(yōu)解，對(duì)粉塵攜帶能力強(qiáng);

高精準(zhǔn)性以防止電池漏電，降低成本;

更細(xì)小的電池單位結(jié)構(gòu)，更小的金屬接觸開(kāi)孔和更靈活的設(shè)計(jì);

基本信息：

運(yùn)行模式：離線

設(shè)備尺寸(長(zhǎng)×寬×高mm)：5500*3000*2550(不包含三色燈，除塵機(jī)，冷水機(jī))

適用硅片尺寸(mm)：182*182-230*230

適用硅片厚度(um)：≥110um

上下料方式：手動(dòng)上下料/AGV上下料

產(chǎn)品性能：

圖形精度：±15um

對(duì)準(zhǔn)精度：≤±15um@182@mark點(diǎn);≤±25um@182@輪廓

設(shè)備產(chǎn)能：>4000pcs/h

碎片率：≤0.03%