碳納米膜制備設備

產(chǎn)品型號：LFT1400C 800D802Z

品 牌：其他品牌

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商

所 在 地：合肥市

產(chǎn)地類別：國產(chǎn)

應用領域：醫(yī)療衛(wèi)生,化工,能源,電子,電氣

一、結(jié)構簡介

碳納米膜制備設備，由氣體質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)等組成。生長爐的最高溫度1400℃，并可在0-1400℃之間連續(xù)可調(diào)，垂直式分布熱場，三點控溫(三段長度平均分配)，設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結(jié)構并帶有風冷系統(tǒng)，保溫材料為加厚型，殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅碳棒。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現(xiàn)連續(xù)生長不間斷的特點。

二、性能參數(shù)

型號LFT1400C 800D802Z

額定功率18KW

額定電壓AC380V

最高溫度1400℃

額定溫度1300℃

推薦升溫速率1400℃以下≤10℃/min

爐管尺寸：(可根據(jù)客戶要求訂制)剛玉管Φ80× 1400mm

外型尺寸(長×深×高)1680*700*2560mm

控溫精度±1℃

極限真空度(選件)1.0×10-3Pa(機械泵+分子泵)

加熱元件硅碳棒

重量230KG

客戶自配裝空氣開關40A