該設備是一臺超高溫超高真空蒸餾爐，主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理，用于高熔點稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。

二、設備特點：

1、系統(tǒng)總功率≤150KW，加熱電源采用具有恒流恒功率功能的低壓IGBT電源。

2、鎢鉭復合護套氧化鉿絕緣超高溫鎢錸電偶測量，能夠實現測量及控制溫度范圍室溫～2000℃，測溫電偶校正加熱功率后自動移出，定時校正，靠軟件恒定加熱功率控制，增加熱電偶使用壽命。瞬時極限溫度2200℃(真空條件紅外測溫)，工作溫度2000℃(真空條件)，控溫精度好于±5℃，可按設定程序控制，熱偶溫度控制點在坩堝中部，紅外溫度控制點在坩堝中部，由軟件控制協(xié)同工作，溫度控制精確穩(wěn)定，沒有溫度過沖，整個工作過程溫度漂移好于±10℃，對爐絲也有保護功能，熱電偶及電極采用橫穿安裝，便于維修。

3、爐殼材料全部316L不銹鋼，整個真空室安裝前進行1000℃，電解拋光并4×10-4Pa真空除氣處理，靜密封采用全金屬密封(也可兼容氟膠密封)，動密封采用焊接紋管密封，可以達到冷態(tài)極限真空度： 9.0×10-8Pa(測量點為爐體內部真空，非泵口真空)1500℃極限真空度為8.0×10-6Pa(空爐),壓升率≤0.001Pa/h。

4、采用耐高溫低蒸汽壓的鎢錸合金棒加熱器，外置高純氮化硼絕緣件吊裝，低蒸汽壓高溫鎢錸合金及鈦鋯鉬合金屏蔽，不會污染產品，所得到的材料純度可以保證。加熱器采用懸浮掛接，不變形，在安裝前進行1200℃，4×10-4Pa真空除氣及脫氧化物處理。

5、控制方式：具有手動/自動和半自動多種功能，由進口三菱PLC進行總體控制，可程序控制設備自動運行，也可切換到手動/半自動運行，可結合進口島電和雷泰程序溫控器結合電腦及PLC、加熱電源、對升溫度時間及保溫時間等進行程序控制，所有這些參數都可通過通訊接口上傳到電腦上進行記錄，顯示器采用12吋高清觸摸屏，美觀大方。

6、超溫報警加熱器斷電，斷水報警加熱器斷電，漏氣報警加熱器斷電，斷偶報警加熱器斷電功能。

三、設備技術參數描述：

1、裝料方式：立式上部進出料

2、極限工作溫度：2200℃

額定最高工作溫度： 2000℃，空爐升溫時間：≤200min。

3、加熱器尺寸Ф260×400mm

4、壓升率： ≤0.001Pa/h(全金屬密封條件下24h剩余真空度好于0. 024Pa，氟橡膠密封條件下，24h剩余真空度好于1Pa)

5、冷態(tài)極限真空度： 9.0×10-8 Pa(金屬圈密封)/ 5.0×10-6(氟膠圈密封)Pa(測量點為爐體內部真空，非泵口真空)

6、電源：380V 50HZ。

7、設備最大高度3500㎜，占地4000㎜×4000㎜

四. 設備組成：

該設備由爐體(雙層水冷)、反射屏、加熱元件、坩堝部件、測溫控溫系統(tǒng)、真空機組、真空測量系統(tǒng)、上蓋冷凝裝置、下蓋坩堝裝置、機架、電控系統(tǒng)及軟件系統(tǒng)等成。

1. 爐體

爐體為雙層水冷結構，材料全部316L 不銹鋼;中間通水冷卻。真空室分水冷上蓋，水冷真空室體及水冷下底三個獨立部分，真空室體與下底采用高純銀或高純銅絲密封，真空室上蓋與真空室體即可以用高純銀或銅絲密封也可以用氟膠圈密封，爐側裝有水冷電極、熱電偶、觀察孔及紅外測溫孔，爐底有CF200清灰孔，整個真空室安裝前全部零件進行1000℃4×10-4Pa24小時真空除氣并電解拋光處理。

結構形式：立式，上開蓋，上出料，上蓋為鐘罩式;

結構尺寸：真空腔有效內尺寸Ф600×1200mm;

密封方式：高純銀或高純銅絲或氟膠圈密封;

2. 保溫屏

保溫屏由3層鎢錸合金屏、3層高溫鎢屏，6層鈦鋯鉬屏(TZM)、一層高溫鉬殼組成，各個保溫屏為獨立整體，安裝前全部零件進行1200℃4×10-4Pa24小時真空除氣除氧化物處理。

3. 加熱元件及坩堝與收集筒

加熱元件采用高溫鎢棒，絕緣材料為熱壓氮化硼，加熱器尺寸Ф260×400mm，鎢坩堝(用戶自備)尺寸：≤Ф160×240mm。

鎢或鉭收集筒尺寸：收集筒尺寸：≤Ф160×500mm(用戶自備)。

4. 測溫控溫系統(tǒng)

加熱電源(120KW)采用低壓IGBT恒流直流電源。測溫控溫用進口島電FP93 溫控表，可以設置溫度曲線及升溫速率，測控溫精度≤1600℃時±2℃，2000℃時±5℃，1600℃以上自動轉換為由紅外測溫。鎢錸偶為鎢鉭復合護套氧化鉿絕緣超高溫熱電偶，可電動進出加熱區(qū)，1600℃以上僅短時間在加熱區(qū)，作為恒流恒功率電源及紅外測溫儀的校準之用，紅外測溫儀也是用于恒流恒功率電源功率校準，不能長時間測溫。

紅外測溫窗口為藍寶石焊接，內有磁力耦合擋板。

5. 真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)由2套天元星CF200 /2000L/S高速高極限分子泵及富斯特15L/S 直聯機械泵組成。

真空閥門為2臺北科儀高真空CF200電動插板閥及CF35 角閥組成。

在真空室2個CF200出口各有一套水冷擋輻射阱。

6. 機架

設備固定于一個1000㎜×3000㎜的平臺上，上蓋采用電動升降機構，腔體有升降移動吊車。

7. 電控部件

工業(yè)控制電腦及PLC控制器，控制柜體面板人性化設計，操作直觀簡單，控制回路具有斷水、超溫、過流、爐蓋升降及對位限位裝置、聲光報警及自動保護等功能。