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OTF-1200X-50-DSL是一款專為定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）設計的水平滑軌式CVD生長爐，同時也適用于在硅片上生長低熔點金屬單晶。其爐管直徑為Φ50mm，爐體滑動速度可在1mm/s至100mm/s范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并支持左右反復滑動及自定義滑動距離，為實驗提供了高度的靈活性。該系統(tǒng)配備可設置30段程序的高溫爐、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭，能夠滿足多種材料生長的需求。在冶金領域，該設備可用于研究低熔點金屬的單晶生長機制，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。
OTF-1200X-50S-PE-SL是一款小型滑動開啟式PECVD管式爐系統(tǒng)，專為高效薄膜沉積實驗設計。該系統(tǒng)配備等離子射頻電源、直徑50mm的開啟式管式爐（含真空法蘭和連接管道）以及機械泵，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的等離子體增強化學氣相沉積。其安裝尺寸為1500mm×600mm×1200mm，重量約160kg，結(jié)構(gòu)緊湊且操作便捷。此外，該設備可根據(jù)實驗需求靈活升級為不同類型的PECVD系統(tǒng)，性價比高，非常適合高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室在薄膜制備、材料表面改性等領域的研究應用。
OTF-1200X-5L-R-CVD是一款1200℃旋轉(zhuǎn)CVD管式爐，專為電池粉體材料表面包覆及其他粉體材料表面修飾設計。爐體配備3個加熱區(qū)，確保溫度均勻性，同時搭載4通道精密混氣系統(tǒng)，可精準控制反應氣體。其安裝尺寸為1950mm×600mm×1320mm，重量約130kg，結(jié)構(gòu)緊湊且功能強大，能夠滿足高校、科研機構(gòu)和企業(yè)實驗室在材料表面處理和修飾方面的多樣化需求。
湖南 - 衡陽
2025年03月28日 ~ 30日
