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粉碎機(jī)用錘頭及粉碎機(jī)

593   編輯:管理員   來源:蘇州兮然工業(yè)設(shè)備有限公司  
2024-03-12 16:41:55
權(quán)利要求書: 1.一種粉碎機(jī)用錘頭,該粉碎機(jī)包括粉碎腔以及轉(zhuǎn)盤,打擊塊設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤邊緣上,其特征在于:其包括設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤上的底座,以及卡設(shè)在所述底座上的U字形的打擊塊,所述打擊塊朝向所述粉碎腔內(nèi)壁一側(cè)設(shè)置有傾斜的斜打擊面,所述斜打擊面上垂直設(shè)置有若干個(gè)通槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉碎機(jī)用錘頭,其特征在于:所述底座通過從所述轉(zhuǎn)盤底部穿出的螺釘固定在所述轉(zhuǎn)盤上,所述底座為山字形結(jié)構(gòu),其具有位于兩側(cè)的肩部,所述打擊塊通過膠水固定在所述轉(zhuǎn)盤的肩部上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉碎機(jī)用錘頭,其特征在于:所述斜打擊面的傾斜角為9~12゜。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的粉碎機(jī)用錘頭,其特征在于:所述斜打擊面的傾斜角為10.89゜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉碎機(jī)用錘頭,其特征在于:所述通槽的寬度為3cm,相鄰所述通槽之間的間距為3cm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的粉碎機(jī)用錘頭,其特征在于:所述打擊塊外側(cè)涂覆有耐磨涂層,所述耐磨涂層的材質(zhì)為:氮化硅或陶瓷。

7.一種粉碎機(jī),其包括權(quán)1至6其中之一的所述錘頭,其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤上等間距設(shè)置有若干個(gè)所述打擊塊,所述打擊塊的斜打擊面朝向所述轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的方向。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的粉碎機(jī),其特征在于:所述粉碎腔側(cè)壁上可拆卸地設(shè)置有環(huán)形的耐磨環(huán),所述耐磨環(huán)的內(nèi)側(cè)壁由若干個(gè)連續(xù)的曲面組成。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的粉碎機(jī),其特征在于:所述耐磨環(huán)由陶瓷制成。

說明書: 粉碎機(jī)用錘頭及粉碎機(jī)技術(shù)領(lǐng)域[0001] 本實(shí)用新型屬于機(jī)械領(lǐng)域,具體涉及一種粉碎機(jī)用錘頭及粉碎機(jī)。背景技術(shù)[0002] 在電池、食品加工等行業(yè)需要大量使用到粉碎機(jī),以便對物料進(jìn)行粉碎。常見的結(jié)構(gòu)是通過設(shè)置在轉(zhuǎn)盤邊緣的打擊塊在高速旋轉(zhuǎn)過程中,對物料進(jìn)行擊打,從而達(dá)到破碎的功能。經(jīng)過反復(fù)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),物料經(jīng)過打擊塊的擊打后,朝相反的方向離開,從而給第二次、第三次擊打造成困難,影響粉碎效果。為了提高粉碎的效果,只能加大轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)速,這相應(yīng)造成成本的上升。發(fā)明內(nèi)容[0003] 為了克服上述問題,本實(shí)用新型提供一種改善粉碎效果的粉碎機(jī)用錘頭及粉碎機(jī)。[0004] 本實(shí)用新型的技術(shù)方案是提供一種粉碎機(jī)用錘頭,該粉碎機(jī)包括粉碎腔以及轉(zhuǎn)盤,所述打擊塊設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤邊緣上,其特征在于:其包括設(shè)置在所述轉(zhuǎn)盤上的底座,以及卡設(shè)在所述底座上的U字形的打擊塊,所述打擊塊朝向所述粉碎腔內(nèi)壁一側(cè)設(shè)置有傾斜的斜打擊面,所述斜打擊面上垂直設(shè)置有若干個(gè)通槽。[0005] 優(yōu)選的,所述底座通過從所述轉(zhuǎn)盤底部穿出的螺釘固定在所述轉(zhuǎn)盤上,所述底座為山字形結(jié)構(gòu),其具有位于兩側(cè)的肩部,所述打擊塊通過膠水固定在所述轉(zhuǎn)盤的肩部上。[0006] 優(yōu)選的,所述斜打擊面的傾斜角為9~12゜。[0007] 優(yōu)選的,所述斜打擊面的傾斜角為10.89゜。[0008] 優(yōu)選的,所述通槽的寬度為3cm,相鄰所述通槽之間的間距為3cm。[0009] 優(yōu)選的,所述打擊塊外側(cè)涂覆有耐磨涂層,所述耐磨涂層的材質(zhì)為:氮化硅或陶瓷。[0010] 本實(shí)用新型還提供一種粉碎機(jī),其包括所述錘頭,所述轉(zhuǎn)盤上等間距設(shè)置有若干個(gè)所述打擊塊,所述打擊塊的斜打擊面朝向所述轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)的方向。[0011] 優(yōu)選的,所述粉碎腔側(cè)壁上可拆卸地設(shè)置有環(huán)形的耐磨環(huán),所述耐磨環(huán)的內(nèi)側(cè)壁由若干個(gè)連續(xù)的曲面組成。[0012] 優(yōu)選的,所述耐磨環(huán)由陶瓷制成。[0013] 本實(shí)用新型的粉碎機(jī)設(shè)置朝向粉碎腔內(nèi)壁的傾斜的打擊面,從而制造出寬進(jìn)窄出的粉碎通道,使得進(jìn)入通道的物料必須經(jīng)過打擊塊和內(nèi)壁的夾擊后,才能離開,配合波浪形曲面的內(nèi)壁,產(chǎn)生亂流,增大了物料被打擊塊擊打的概率,從而大大提高了粉碎的效果。附圖說明[0014] 圖1是本實(shí)用新型粉碎機(jī)用錘頭的最佳實(shí)施例的正視圖;[0015] 圖2是圖1中B-B向剖視圖;[0016] 圖3是圖1的俯視圖;[0017] 圖4是粉碎機(jī)的俯視圖;[0018] 圖5是粉碎機(jī)的局部立體圖。具體實(shí)施方式[0019] 下面對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。[0020] 如圖1至圖5所示,本實(shí)用新型的一種粉碎機(jī)用錘頭,該粉碎機(jī)包括粉碎腔10以及轉(zhuǎn)盤12,打擊塊14設(shè)置在轉(zhuǎn)盤12邊緣上,其包括設(shè)置在轉(zhuǎn)盤12上的底座16,以及卡設(shè)在底座16上的U字形的打擊塊14。底座16通過從轉(zhuǎn)盤12底部穿出的螺釘固定在轉(zhuǎn)盤12上,底座16為山字形結(jié)構(gòu),其具有位于兩側(cè)的肩部18,打擊塊14通過膠水固定在轉(zhuǎn)盤12的肩部18上。

[0021] 打擊塊14朝向粉碎腔10內(nèi)壁一側(cè)設(shè)置有傾斜的斜打擊面20,斜打擊面20上垂直設(shè)置有若干個(gè)通槽22。斜打擊面20與粉碎腔10的內(nèi)壁形成一個(gè)寬進(jìn)窄出的通道。斜打擊面20的傾斜角α為10.89゜;通槽22的寬度l1為3cm,相鄰?fù)ú?2之間的間距l(xiāng)2也為3cm。此處傾斜角及通槽22的寬度都是經(jīng)過反復(fù)實(shí)驗(yàn)論證的,傾斜角過小會(huì)導(dǎo)致進(jìn)入的物料太少,粉碎效果差,過大則會(huì)到進(jìn)入的物料過多,容易在通道最窄處產(chǎn)生堵塞,發(fā)生故障。設(shè)置通槽22的有益效果在于:形成容納物料的空間,避免物料在通道的最窄處積壓,發(fā)生故障;擴(kuò)大了與物料的接觸面積,形成更多的撞擊,提高了粉碎的效果;此外,通槽22配合波浪形的內(nèi)壁,也可以給物料形成紊流,使得物料獲得打擊塊14打擊的概率大大增加。[0022] 打擊塊14外側(cè)涂覆有耐磨涂層,耐磨涂層的材質(zhì)為:氮化硅或陶瓷。[0023] 本實(shí)用新型還提供一種粉碎機(jī),其轉(zhuǎn)盤12上等間距設(shè)置有若干個(gè)錘頭,錘頭的斜打擊面20朝向轉(zhuǎn)盤12旋轉(zhuǎn)的方向。[0024] 粉碎腔10側(cè)壁上可拆卸地設(shè)置有環(huán)形的耐磨環(huán)24,耐磨環(huán)24的內(nèi)側(cè)壁由若干個(gè)連續(xù)的曲面組成,該曲面和通槽22配合,共同給物料制造紊流。進(jìn)一步地,耐磨環(huán)24由陶瓷制成。[0025] 以上實(shí)施例僅為本實(shí)用新型其中的一種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì),但并不能因此而理解為對本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此,本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。



聲明:
“粉碎機(jī)用錘頭及粉碎機(jī)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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