一種制備高純材料的
粉末冶金方法,涉及一種用于電子、太陽能行業(yè)的高純金屬或高純陶瓷的濺射靶材料的制備方法。其特征在于其制備過程中以純度不低于99.9%的金屬粉末或陶瓷粉末為原料,其步驟包括:(1)將粉體進(jìn)行成形;(2)將成形后的坯料進(jìn)行預(yù)燒結(jié);(3)將預(yù)燒結(jié)后的坯料進(jìn)行最終燒結(jié),獲得高純度、致密的材料。采用本發(fā)明的方法,在低的氣氛壓力下進(jìn)行預(yù)燒結(jié)時(shí),降低雜質(zhì)熔點(diǎn),創(chuàng)造了雜質(zhì)的揮發(fā)條件,去除了材料中的低熔點(diǎn)雜質(zhì)。尤其是降低了材料中的C、O、Si、Cr、Ca、K、Mg、Ti、Ni等雜質(zhì)元素含量,顯著提高了制成品的純度,保證濺射靶材的產(chǎn)品質(zhì)量。
聲明:
“制備高純材料的粉末冶金方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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