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射頻—直流多層輝光離子滲鍍設(shè)備及工藝

853   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 14:46:09
射頻-直流多層輝光離子滲鍍設(shè)備及工藝屬于表面冶金的范疇,其設(shè)備特征是在爐底盤與工件極之間放置一絕緣物,對射頻與直流,爐底盤和工件極將具有不同的電極功能。工件利用輝光放電空心陰極效應(yīng)進(jìn)行加熱,在工藝上提供了一種在導(dǎo)體、非導(dǎo)體基材表面形成表面鍍層、擴(kuò)散層和擴(kuò)散層與鍍層復(fù)合層的方法。本發(fā)明將直流輝光引入工件,彌補(bǔ)了射頻濺射設(shè)備只能形成鍍層不能形成滲入擴(kuò)散層的不足。提供了具有更強(qiáng)結(jié)合力的滲、鍍、擴(kuò)散及它們之間相互結(jié)合的復(fù)合層材料。
聲明:
“射頻—直流多層輝光離子滲鍍設(shè)備及工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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