本發(fā)明屬于
粉末冶金技術(shù)領(lǐng)域,具體提供一種鉬合金靶材及其制備方法和應(yīng)用。所述鉬合金靶材的制備方法包括如下步驟:配制原料:按照所述靶材各元素質(zhì)量配比稱取原料混合,以質(zhì)量百分數(shù)計,所述靶材包括如下成分,Ni:10%~30%,Ti:5%~25%,W:1%~20%和Re:0.5%~5%,余量為Mo和不可避免的雜質(zhì),且Mo的質(zhì)量百分比≥50%;冷等靜壓;熱等靜壓;熱軋;退火。本申請方法制備的靶材塑韌性好,變形能力好,晶粒細小均勻。用本申請制備的靶材濺射沉積的薄膜厚度分布更均勻,可通過濺射方式附著在電子部件用層疊配線膜的主導(dǎo)電層上形成金屬覆蓋層,用于平面顯示器、薄膜太陽能和半導(dǎo)體裝置等。
聲明:
“鉬合金靶材制備方法、鉬合金靶材和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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