本發(fā)明涉及一種刮涂法制備大尺寸晶粒
鈣鈦礦薄膜的方法,首先制備離子液體鈣鈦礦刮涂前驅(qū)體,拖動(dòng)刮刀從基底的一端勻速運(yùn)動(dòng)至另一端后,在基底上留下一層濕潤(rùn)的鈣鈦礦薄膜;在刮涂涂布機(jī)上退火20±5秒,然后將已完全變相的鈣鈦礦薄膜轉(zhuǎn)移至110±10℃的熱臺(tái)上再退火10分鐘,得到充分沉積的大尺寸晶粒鈣鈦礦薄膜。有益效果:大尺寸晶粒的鈣鈦礦薄膜的制備在空氣中進(jìn)行,無(wú)特殊保護(hù)氣氛要求;通過(guò)調(diào)整刮涂速率、縫隙間距等可按照實(shí)際需求調(diào)節(jié)鈣鈦礦薄膜參數(shù);刮涂涂布機(jī)設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易操作,儀器成本較低,適用于規(guī)?;a(chǎn);大尺寸晶粒的鈣鈦礦薄膜不僅可應(yīng)用于
太陽(yáng)能電池,也可被用于發(fā)光二極管、光電探測(cè)器等其它領(lǐng)域。
聲明:
“刮涂法制備大尺寸晶粒鈣鈦礦薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)