本發(fā)明提出了一種精細(xì)刻畫薄互層超覆尖滅儲(chǔ)層的方法、裝置及電子設(shè)備。本發(fā)明基于正演模擬,建立了不同角度的尖滅地質(zhì)模型,分析了不同尖滅角度與地震數(shù)據(jù)識(shí)別誤差之間的關(guān)系;然后通過這種關(guān)系對(duì)尖滅線真實(shí)位置進(jìn)行校正與反推。本發(fā)明同時(shí)充分利用了波形指示模擬反演方法的優(yōu)勢(shì),分析不同井?dāng)?shù)據(jù)參數(shù)代表的特定質(zhì)信息,最終實(shí)現(xiàn)薄互層儲(chǔ)層分布及厚度的預(yù)測(cè)。最后充分結(jié)合正反演結(jié)果及構(gòu)造解釋成果,在縱向上與平面儲(chǔ)層范圍上共同精細(xì)刻畫薄互層超覆尖滅儲(chǔ)層。此方法在實(shí)際資料應(yīng)用中取得了良好的效果,提高了薄互型超覆尖滅儲(chǔ)層的預(yù)測(cè)精度,證實(shí)了方法的實(shí)用性。
聲明:
“精細(xì)刻畫薄互層超覆尖滅儲(chǔ)層的方法、裝置及電子設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)