本發(fā)明專利屬于電阻率測深解釋領(lǐng)域,具體公開一種電阻率測深的解釋及繪圖方法,該方法如下:整理及準(zhǔn)備數(shù)據(jù);繪制電阻率曲線;根據(jù)電阻率曲線形態(tài)判斷其類型;根據(jù)電阻率曲線類型給定電性層電阻率及厚度;運(yùn)行程序、計算T函數(shù)擬合誤差;保存程序中的計算結(jié)果;根據(jù)計算結(jié)果繪制剖面等值線斷面圖;繪制地質(zhì)斷面圖等。使用本方法進(jìn)行電阻率測深數(shù)據(jù)解釋和繪制圖件,具有以下優(yōu)點(diǎn):1.操作簡單、方便;2.通過T函數(shù)擬合,解釋結(jié)果更接近于實際;3.該解釋軟件可為基層物探技術(shù)員的數(shù)據(jù)處理解釋提供較多便利。本方法適用于電阻率測深法的數(shù)據(jù)解釋成圖,為野外生產(chǎn)提供較為有意義的指導(dǎo)。
聲明:
“電阻率測深數(shù)據(jù)處理解釋與繪圖方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)