應用:采用雙層殼體機構,爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料,廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理,也可用于特殊材料的熱處理,如碳制品的碳化工藝。 特點:爐門口安裝有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過流量計進入爐內,并有多處洗爐膛進氣口、出氣口有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體。真快度可達10pa,具有溫差均勻,表面溫度低,升降溫速度快,節(jié)能等優(yōu)點,溫控系統(tǒng)采用進口多段智能程序溫度控制儀表控制。
此款多工位真空管式爐爐體可作0~180度旋轉,多工位操作滿足客戶不同的實驗需求。其采用電阻絲作為發(fā)熱元件,額定溫度1100℃,采用K型熱電偶測溫和雙向可控硅智能化程序控溫,具有較高的控溫精度(土1℃)。 此外該爐具有真空裝置,可在不同工作角度和多種氣氛下工作,大大提高了其使用范圍。該爐具有使用溫度高、高精度控溫、操作簡單、維修方便等優(yōu)點,可廣泛用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門。
LFT1700C 700D80高溫真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件,爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管,適合較高溫度條件下材料燒結處理,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
LFT1700C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件,爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管,適合較高溫度條件下材料燒結處理,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
LFT1700C 800D80IV高溫真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件,爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管,適合較高溫度條件下材料燒結處理,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
設備特點: 1、保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料,環(huán)保節(jié)能,不含污物,潔凈,美觀; 2、采用模糊PID控制,智能PID精準控制,溫場均勻,燒結成品一致性; 3、爐體采用雙層風冷機構,爐子燒到最高溫度時,殼體表面溫度低于60度; 4、用多種保溫材料組合制成,使爐子體積小,能量消耗少(耗電量是同類產(chǎn)品耗電量的四分之一)。 5、爐體的正面、左側以及頂部安裝石英觀察窗,以便觀察樣品在實驗過程中的狀態(tài)。
LFT-1200C 600D130單溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
LFT-1200C 400D50單溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用理想設備。設備配置預熱爐,可用來預熱S粉等方便低蒸發(fā)溫度點材料的蒸發(fā)時間和溫度的控制。
熱壓方法的最大優(yōu)點是可以大大降低成形壓力和縮短燒結時間,可以制得密度高和晶粒極細的材料,該設備可將壓制和燒結兩個工序一并完成, 可以在較低壓力下迅速獲得冷壓燒結所達不到的密度,從這個意義上說,熱壓是種強化燒結。凡是用一般方法能制得的粉末零件,都適于用熱壓方法制造,尤其適于制造全致密難熔金屬及其化合物等材料。 開啟式立式爐,爐管法蘭可繞軸旋轉一出爐腔,標配Φ100mm石英管真空密封,20T電動壓力系統(tǒng),采用石墨項桿和石墨模(特別定制),在加壓的間時使粉末加熱到正常燒結溫度或更低一些。
應用領域 LFM系列高溫氣氛箱式電阻爐設計用于電子元件、玻璃、陶瓷粉料的在一定真空或氣氛保護下預燒、燒結,亦可作為其它陶瓷產(chǎn)品、稀土元件、磁性材料等的燒成之用。保溫材料采用高純輕質氧化鋁纖維,30段PID程序溫控儀控制;具有升降溫速率調整范圍大,生產(chǎn)效率高,節(jié)能等特點,設備外型美觀,非常適合于科研單位批量生產(chǎn),也能滿足一定條件下產(chǎn)能要求。
設備特點: 本公司LQS-02VT真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成,封管機上有電磁閥,通電后處于常開狀態(tài),當壓力達到設定壓力后,電磁閥自動關閉,停止進氣。 標準化定制石英管和石英柱保證其余特殊設計的管接頭配合,提升石英管封裝的密封性,實現(xiàn)更高標準的真空封管。 優(yōu)勢: 石英管與內置石英柱高溫熔接,標準化處理,重復性好。 石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉,操作簡單,受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置,避免粉末材料進入真空泵,延長真空泵使用壽命。 該設備為標準化操作,即學即用,簡單方便。
應用:采用雙層殼體機構,爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料,廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理,也可用于特殊材料的熱處理,如碳制品的碳化工藝。 特點:爐門口安裝有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過流量計進入爐內,并有多處洗爐膛進氣口、出氣口有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體。真快度可達100pa,具有溫差均勻,表面溫度低,升降溫速度快,節(jié)能等優(yōu)點,溫控系統(tǒng)采用進口多段智能程序溫度控制儀表控制。
CVD1200C 440D60 2ZLV 是集單溫區(qū)真空管式爐、二路質量流量計系統(tǒng)及低真空機組而成一種動態(tài)狀態(tài)下的化學氣相沉積系統(tǒng)。單溫區(qū)真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。
LFT1200C 400D100II雙溫區(qū)開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,該設備設計為與手套箱對接使用,樣品可完全處于相對對立的無水無氧環(huán)境,該設備還配有高真空系統(tǒng),整個實驗工藝可在真空控制條件下進行,具備較高的擴展性和重復性,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在相對對立的無氧無水環(huán)境下操作的設備.
LFT1750C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質硅鉬棒為加熱元件,爐管使用能耐較高溫度高純氧化鋁管,適合較高溫度條件下材料燒結處理,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
該設備是由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設計的,其滑軌式結構設計在實驗過程中可滿足多種工藝要求,可將樣品直接推至實驗所需設定高溫區(qū),使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率,滿足工藝要求對升降溫要求較高的實驗,是一款性價比很高的產(chǎn)品, 適用于二維材料,碳材料的實驗要求。
設備特點: 此款多工位真空管式爐爐體可作0~180度旋轉,多工位操作滿足客戶不同的實驗需求。LFT-1200C 400D60單溫區(qū)多工位開啟式真空管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的專用理想設備。
本公司LSQ-01真空封管機主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成,整套系統(tǒng)由真空封管機、氫氧焰機、真空系統(tǒng)、石英管機管接頭組成,標準化定制石英管和石英柱保證其余特殊設計的管接頭配合,提升石英管封裝的密封性,實現(xiàn)更高標準的真空封管。 優(yōu)勢: 石英管與內置石英柱高溫熔接,標準化處理,重復性好。 石英管配合動密封系統(tǒng)自動旋轉,操作簡單,受熱均勻。 真空系統(tǒng)配備旁抽裝置,避免粉末材料進入真空泵,延長真空泵使用壽命。 氫氧機采用電解水產(chǎn)氣,即產(chǎn)即用,安全系數(shù)高。 該設備為標準化操作,即學即用
該區(qū)域熔融爐設計為有機材料或無機材料區(qū)域融化提純使用,爐體加熱區(qū)長度60mm,高精度電機經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進,行進速度可調, 最高使用可達600℃,設備采用雙層風冷結構,殼體表面溫度<60℃,保溫材料為超細氧化鋁纖維,節(jié)能環(huán)保,溫場勻性良好。 立式結構設計,可使樣品在區(qū)熔純化過程中處于垂直狀態(tài)。相較水平狀態(tài),可避免重力影響,有利于金屬樣品處理。
該設備為我司研發(fā)用于薄膜材料連續(xù)生長專用設備或薄膜材料連續(xù)熱處理使用,該設備配備真空系統(tǒng),氣體流量控制系統(tǒng),可實現(xiàn)多種實驗調整,同時具有一定的產(chǎn)能要求。真空腔室內采用動密封,確保系統(tǒng)在真空或氣氛保護條件下工作,適用于連續(xù)生長等工藝要求。
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