中頻無芯感應(yīng)保溫爐 236     

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中頻無芯感應(yīng)保溫爐是一種高效、節(jié)能的熔煉和保溫設(shè)備，廣泛應(yīng)用于金屬熔煉和保溫領(lǐng)域。該設(shè)備采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，通過電磁感應(yīng)產(chǎn)生渦流，使金屬在爐內(nèi)快速熔化并保持高溫狀態(tài)，確保金屬液的均勻性和流動性。中頻無芯感應(yīng)保溫爐具有操作簡便、節(jié)能高效、安全可靠等特點，是現(xiàn)代金屬加工和鑄造行業(yè)的理想選擇。

熱芯盒射芯機(jī) 235     

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熱芯盒射芯機(jī)是一種用于覆膜砂制芯的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于鑄造行業(yè)，特別適用于生產(chǎn)汽車、閥門、機(jī)床等中小型鑄件型芯。

真空電弧重熔爐 231     

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在真空環(huán)境下，電弧產(chǎn)生于自耗電極底部( 陰極)和坩堝底部(陽極)之間，當(dāng)電弧形成，能夠迅速產(chǎn)生一個金屬熔池。電極底部和被熔化材料上部之間的電弧加熱區(qū)在確定的熔煉速率控制下被精確的保持。

高真空擴(kuò)散焊設(shè)備 245     

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真空擴(kuò)散焊接是指在潔凈真空或高純氣體保護(hù)環(huán)境下，在高溫和壓力的共同作用下，相互接觸的同質(zhì)或異質(zhì)材料表面的原子分散和結(jié)合，經(jīng)一定時間后結(jié)合層原子間相互擴(kuò)散而形成整體的可靠連接的過程。

雙模式真空感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備 365     

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采用有坩堝底鑄式真空感應(yīng)熔煉及惰性氣體霧化法制備金屬及金屬合金的微晶或非晶球形粉末。適用于高溫合金、特殊鋼、銅合金、鋁合金等材料的粉體研發(fā)與制備。

電極感應(yīng)惰性氣體霧化制粉設(shè)備 167     

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在高真空環(huán)境下充入高純惰性氣體，將預(yù)制合金棒通過爐外升降旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)送入爐內(nèi)錐型感應(yīng)線圈內(nèi)感應(yīng)加熱熔化，束流熔滴直接流入特制的霧化器噴嘴系統(tǒng)，利用高壓惰性氣體進(jìn)行霧化制粉的成套設(shè)備。具有無坩堝材料污染，粉體球型度高等優(yōu)點。采用電極感應(yīng)熔煉和惰性氣體霧化技術(shù)可以制備超純金屬粉末。

高溫真空釬焊爐 231     

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高溫真空釬焊爐是一種高性能的焊接設(shè)備，主要用于不銹鋼板翅式散熱器、汽車EGR、機(jī)油冷卻器、金剛石工具、高溫合金、板翅式鈦合金散熱器及其他耐熱合金的真空釬焊，同時也適用于鋯、鈮、鉬、鉭等難熔合金或異種金屬的焊接。設(shè)備采用內(nèi)循環(huán)或外循環(huán)冷卻方式，將加熱與冷卻分開，確保高效穩(wěn)定的工藝過程。保溫系統(tǒng)采用全金屬屏，保證工件在高真空度及潔凈環(huán)境下進(jìn)行釬焊，避免氧化和污染。其多區(qū)控溫加熱方式能夠?qū)崿F(xiàn)良好的溫度均勻性，確保焊接質(zhì)量。此外，該設(shè)備還具有零件不氧化、無污染、變形小等優(yōu)點，是高精度焊接工藝的理想選擇。

真空熱處理釬焊設(shè)備 297     

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真空熱處理釬焊設(shè)備是一種專用于金屬材料高真空熱處理及真空釬焊的先進(jìn)設(shè)備，廣泛適用于不銹鋼、鈦及鈦合金、高溫合金等零件的真空退火、回火、消除應(yīng)力處理以及真空除氣等工藝。設(shè)備采用立式底裝料結(jié)構(gòu)，有效容積可根據(jù)客戶需求定制，提供800℃、1350℃、1600℃三種最高設(shè)計溫度可選。其極限真空度優(yōu)于5×10??Pa，壓升率低至≤0.27Pa/h，確保高真空環(huán)境下的穩(wěn)定處理效果。全金屬加熱室設(shè)計，溫度均勻性優(yōu)于±5℃，符合航空行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)HB5425。

真空熱壓及加壓燒結(jié)設(shè)備 232     

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真空熱壓及加壓燒結(jié)設(shè)備是一種用于金屬及非金屬陶瓷高溫?zé)釅撼尚偷南冗M(jìn)設(shè)備，具備多種顯著特點和優(yōu)點。其有效容積可根據(jù)客戶需求定制，最高設(shè)計溫度有1350℃、1600℃、2200℃三種可選。壓機(jī)噸位范圍為50T-630T，滿足不同燒結(jié)壓強(qiáng)要求。設(shè)備采用高精度壓力控制PID調(diào)節(jié)，極限真空度優(yōu)于5×10?3Pa，壓升率≤0.67Pa/Hr。加熱和加壓過程實現(xiàn)全自動控制，全金屬或石墨加熱室溫度均勻性優(yōu)于±5℃。

超高真空退火爐 323     

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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實驗設(shè)計的設(shè)備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標(biāo)，確保在高溫下維持高真空環(huán)境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結(jié)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區(qū)尺寸為Ф80x120(mm)。系統(tǒng)由真空抽氣機(jī)組、真空室、測量系統(tǒng)、加熱控溫系統(tǒng)、電動升降系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、液氮冷阱及臺架等組成，并通過計算機(jī)實現(xiàn)控制，滿足長時間高溫處理需求。

臥式真空退火爐 323     

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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設(shè)計，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結(jié)構(gòu)，確保高效處理。最高加熱溫度可達(dá)1000℃，均溫區(qū)Ф150x600(mm)內(nèi)溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時。設(shè)備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統(tǒng)組成，滿足高精度熱處理需求。

真空退火爐 243     

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真空退火爐是一種臥式結(jié)構(gòu)的高效熱處理設(shè)備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統(tǒng)空載極限真空度可達(dá)≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內(nèi)將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內(nèi)。最高加熱溫度可達(dá)1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設(shè)備采用導(dǎo)電智能控溫表，確保精確的溫度控制。

高真空管式氮化爐 258     

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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)，安裝在可移動臺架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達(dá)250℃，均勻區(qū)軸向長度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調(diào)，并具有多重保護(hù)功能。手套箱設(shè)計便于樣品處理，氣路系統(tǒng)可控制N?、Ar氣體流量，整個系統(tǒng)還配有冷卻循環(huán)水裝置和斷水?dāng)嚯娐?lián)鎖保護(hù)，確保安全穩(wěn)定運行。

高真空加熱裝置 221     

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高真空加熱裝置是一種先進(jìn)的材料處理設(shè)備，具備優(yōu)異的真空性能，極限真空度可達(dá)<6.7x10??Pa，漏率優(yōu)于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機(jī)組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內(nèi)部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內(nèi)最高加熱溫度達(dá)800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環(huán)降溫系統(tǒng)，保護(hù)罐體密封口，以及包含真空機(jī)組控制、真空度和溫度顯示及系統(tǒng)聯(lián)鎖保護(hù)功能的電控系統(tǒng)。

專用高溫真空熱處理爐 249     

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該真空管式爐具備優(yōu)異的真空性能，系統(tǒng)極限真空度可達(dá)到優(yōu)于3.0×10??Pa，而系統(tǒng)漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內(nèi)能夠在極低的氣壓下進(jìn)行高溫處理，適合對材料進(jìn)行精密的熱處理工藝。這些真空指標(biāo)對于確保材料處理過程中的高質(zhì)量和高純度至關(guān)重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結(jié)等應(yīng)用。

真空管式爐 227     

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TAZKS-1100型真空管式爐由沈陽騰蓄真空技術(shù)有限公司生產(chǎn)，是一種用于微波基板生產(chǎn)的設(shè)備。它主要由抽氣系統(tǒng)、石英管組件、過渡室系統(tǒng)、加熱爐系統(tǒng)、樣品架系統(tǒng)和電控系統(tǒng)組成，具備陶瓷基板退火處理和真空燒結(jié)的功能。

真空熱壓燒結(jié)爐 138     

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真空熱壓燒結(jié)爐是一種用于粉末冶金熱處理的立式升降下法蘭結(jié)構(gòu)真空爐，具備高效、精準(zhǔn)的溫度和真空控制功能。其爐內(nèi)有效工作區(qū)為150mm×150mm，最高溫度可達(dá)2000℃，主要工作溫度范圍為1000℃~1500℃，配備多段程序控溫（至少12段），升溫速率0.1℃~20℃/min可調(diào)，溫度控制精度±1℃，均勻性±5℃。冷態(tài)空載極限真空度<5×10??Pa，壓升率<0.8Pa/h，真空泵抽氣管道側(cè)置，便于樣品更換和降低設(shè)備高度，適用于粉末冶金制品的高質(zhì)量熱處理。

高溫高真空試驗爐 243     

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高溫高真空試驗爐是一種用于高溫真空環(huán)境下的材料性能測試設(shè)備，具備以下特點：在1700K工作溫度下，爐膛內(nèi)真空度優(yōu)于1.0×10??Pa，真空計測量范圍寬廣（5.0×10??Pa~1.0×10?Pa）。設(shè)備設(shè)計滿足長時間穩(wěn)定工作溫度不低于1500℃，最高可達(dá)1550℃，樣品區(qū)域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內(nèi)優(yōu)于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉(zhuǎn)空間（約Ф300mm×200mm），開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。

氖氣退火爐 243     

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氖氣退火爐是一種高性能的熱處理設(shè)備，主要用于在高真空或惰性氣體氛圍下對金屬材料進(jìn)行退火處理。該設(shè)備通過精確控制溫度、真空度和氣體環(huán)境，確保材料在處理過程中保持高純度和高質(zhì)量。以下是該設(shè)備的主要技術(shù)指標(biāo)和特點。

磁場增強(qiáng)真空蒸餾爐 324     

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磁場增強(qiáng)蒸餾提純爐是一種先進(jìn)的高純度金屬提純設(shè)備，專門用于對鈹金屬進(jìn)行高精度的蒸餾提純。該設(shè)備通過獨特的設(shè)計和工藝，能夠有效去除鐵磁性雜質(zhì)，提高金屬的純度，滿足高精度應(yīng)用的需求。

鈹真空熔煉蒸餾提純爐 321     

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鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設(shè)備，采用中頻感應(yīng)加熱技術(shù)，在真空環(huán)境中對鈹金屬進(jìn)行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器，蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集，實現(xiàn)高效提純。該設(shè)備一次蒸餾量可達(dá)3000克，具備工業(yè)化生產(chǎn)規(guī)模，操作簡便，且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便，適合大規(guī)模生產(chǎn)高純度鈹金屬。

金屬破碎料分選機(jī) 378     

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撫順亦杰機(jī)器有限公司金屬破碎料分選機(jī)，也叫同心渦電流分選機(jī)，用于精細(xì)鋁分離，同心渦電流分選機(jī)分選區(qū)域大、分選能力強(qiáng)，適合用于從大批量材料中分離小鋁，小至2mm的有色金屬顆粒。公司在為客戶設(shè)計分選方案的時候，會選擇使用亦杰同心渦電流分選機(jī)分離微小有色金屬雜質(zhì)。尤其是使用于PET 塑料瓶片凈化除雜回收工藝中，也適用于玻璃廢料回收，生活垃圾焚燒爐渣分選，廢鋁回收分選等回收系統(tǒng)。

同心渦電流分選機(jī) 403     

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撫順亦杰機(jī)器有限公司生產(chǎn)的同心渦電流分選機(jī)，以其卓越的分選性能和大范圍的處理能力，成為處理大批量材料中微小鋁顆粒的理想選擇。該設(shè)備特別適用于PET塑料瓶片、玻璃廢料、生活垃圾焚燒爐渣以及廢鋁等回收系統(tǒng)的凈化除雜工藝。其采用高性能釹鐵硼磁源，確保了強(qiáng)大的磁場強(qiáng)度，同時，高轉(zhuǎn)速的穩(wěn)定運行和多種規(guī)格的配置，使其能夠滿足不同處理量的需求，為各種回收工藝提供了高效可靠的解決方案。

熔鹽物性綜合測試儀 898     

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測量熔鹽的密度、表面張力、電導(dǎo)率和初晶溫度，利用設(shè)備的熱稱重系統(tǒng)和精確定位系統(tǒng)開展相應(yīng)的研究工作，例如研究熔鹽的揮發(fā)損失等。

熔鹽物性綜合測試儀 882     

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1. 使用溫度：1600度； 2. 擁有導(dǎo)向式電導(dǎo)池專利技術(shù) ，電導(dǎo)率測量數(shù)據(jù)精準(zhǔn)、穩(wěn)定； 3. 爐底可電動升降，方便試料裝入和取出； 4. 底部可接入保護(hù)氣體。

熔鹽電導(dǎo)率測試儀 882     

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1. 結(jié)構(gòu)簡單； 2.擁有導(dǎo)向式電導(dǎo)池專利技術(shù)，測量數(shù)據(jù)精準(zhǔn)、穩(wěn)定； 3. 采用小型電爐，小尺寸坩堝，實驗成本低； 4. 爐底升降，取放試料方便。

納米材料制備設(shè)備 411     

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電弧放電法制備納米材料。改進(jìn)設(shè)計后增加配置可用于制備石墨烯材料研究。

脈沖激光鍍膜設(shè)備 301     

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用激光打在靶材上，制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、超硬薄膜等，是一種非常適用的鍍膜方式。

高溫高真空管式爐 314     

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用于高等院校及科研部門、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。

難熔金屬真空鎢極電弧熔煉爐 293     

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難熔金屬真空鎢極電弧熔煉爐，電弧熔煉爐指標(biāo)：熔煉室：內(nèi)徑250×360mm、內(nèi)徑300×360mm兩種。高真空后充氣至正壓冶煉。