1100℃ 十溫區(qū)高壓管式爐 270     

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OTF-1200X-X-85GF是一款專(zhuān)為高溫高壓材料合成設(shè)計(jì)的1100℃十溫區(qū)管式爐，爐管采用Ni基合金鋼制作，能夠在氧或惰性氣體環(huán)境下承受高溫高壓（最高溫度1000℃）。該設(shè)備配備壓力和氣體流量控制系統(tǒng)，確保升溫和降溫過(guò)程中爐管內(nèi)壓力穩(wěn)定。其獨(dú)特的十溫區(qū)設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)精確的溫度控制，特別適用于制備Fe基超導(dǎo)材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究新型材料的高溫合成機(jī)制和性能優(yōu)化，為高性能材料的開(kāi)發(fā)提供有力支持。

1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐 149     

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OTF-1200X-80-HPV-III-GF是一款1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐，專(zhuān)為高溫高壓及高真空條件下的冶金實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和耐高壓性能，最高工作溫度可達(dá)1100℃，在此溫度下可承受的最大壓力為4MPa。三個(gè)獨(dú)立控制的加熱區(qū)能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制，滿足復(fù)雜的冶金工藝需求。該設(shè)備適用于金屬材料的高溫合成、熱處理以及在高真空或高壓氣氛下的性能研究，為冶金領(lǐng)域提供了一個(gè)高效、可靠的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

帶有光學(xué)窗口的高溫高壓爐 163     

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OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，專(zhuān)為高溫高壓環(huán)境下的光學(xué)氣體分析實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和抗氧化性能，最高工作溫度可達(dá)1100℃。兩端法蘭上安裝的石英窗口能夠允許各種波長(zhǎng)的光通過(guò)整個(gè)爐管，便于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中的光學(xué)變化。這種設(shè)計(jì)特別適合冶金領(lǐng)域中對(duì)金屬材料在高溫高壓條件下的反應(yīng)過(guò)程進(jìn)行光學(xué)分析，為研究材料的相變、氧化還原行為等提供重要支持。

1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐 156     

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OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，專(zhuān)為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)。其爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有高蠕變強(qiáng)度和抗氧化性，可承受最高溫度1100℃，在此溫度下最大壓力為3MPa。該設(shè)備特別適合在高壓氧環(huán)境下對(duì)金屬樣品進(jìn)行熱處理，也可用于水浴法制備材料。法蘭上安裝的電磁閥可在壓力超過(guò)設(shè)定值時(shí)自動(dòng)排氣，確保實(shí)驗(yàn)安全。其雙溫區(qū)設(shè)計(jì)能夠滿足復(fù)雜的冶金工藝需求，為金屬材料的高溫高壓研究提供可靠的實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

1600℃高溫高壓燒結(jié)爐 263     

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GSL-1600-HP是一款專(zhuān)為冶金領(lǐng)域設(shè)計(jì)的高溫高壓氣氛燒結(jié)爐，最高溫度可達(dá)1600℃，最高壓力可達(dá)10MPa，能夠滿足高溫高壓下材料的燒結(jié)需求。其大型爐腔和高壓力設(shè)計(jì)使其特別適合用于燒結(jié)高性能金屬陶瓷、硬質(zhì)合金等材料，為冶金研究和生產(chǎn)提供可靠的高溫高壓環(huán)境，是開(kāi)發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化燒結(jié)工藝的理想設(shè)備。

氫爆爐 303     

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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的氫氣管式爐，專(zhuān)為冶金領(lǐng)域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備5個(gè)獨(dú)立溫控系統(tǒng)的溫區(qū)，爐管采用310不銹鋼材質(zhì)，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設(shè)備內(nèi)置3M氫氣探測(cè)器，一旦檢測(cè)到氫氣泄漏，將自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣閥和出氣閥，確保實(shí)驗(yàn)過(guò)程的安全。其最高溫度可達(dá)1200℃，適用于對(duì)氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

10英寸氫氣管式爐 244     

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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標(biāo)準(zhǔn)的10英寸氫氣管式爐，專(zhuān)為冶金領(lǐng)域中的Ti合金退火和對(duì)氧敏感材料的熱處理設(shè)計(jì)。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設(shè)計(jì)有3個(gè)加熱區(qū)，最高溫度可達(dá)1250℃。該設(shè)備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理，特別適用于對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)和性能有嚴(yán)格要求的冶金實(shí)驗(yàn)，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長(zhǎng)爐 269     

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GSL-1100X-III-D11是一款專(zhuān)為大面積材料生長(zhǎng)設(shè)計(jì)的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達(dá)1100℃。其獨(dú)特的雙管設(shè)計(jì)通過(guò)CVD方法在箔材上實(shí)現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長(zhǎng)，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設(shè)備不僅適合大面積生長(zhǎng)石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領(lǐng)域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開(kāi)發(fā)高性能復(fù)合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 263     

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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專(zhuān)為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為4英寸，樣品臺(tái)滑軌周?chē)队锌缮炜s波紋管，可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下實(shí)現(xiàn)樣品的快速移動(dòng)。該設(shè)備最大升溫速率達(dá)到50℃/s，最大冷卻速率達(dá)到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務(wù)。此外，它還可通過(guò)HPCVD方法生長(zhǎng)二維晶體，一個(gè)加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個(gè)加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領(lǐng)域中二維材料的生長(zhǎng)和金屬薄膜的制備。

1200℃坩堝可移動(dòng)型管式爐 255     

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OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開(kāi)啟式管式爐，專(zhuān)為冶金及材料合成實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其爐管直徑為50mm，配備步進(jìn)電機(jī)控制坩堝在爐管內(nèi)的移動(dòng)，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設(shè)計(jì)特別適合用于冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實(shí)驗(yàn)，可有效控制材料的生長(zhǎng)過(guò)程和微觀結(jié)構(gòu)，為研究高性能金屬材料和復(fù)合材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

900℃帶3路浮子混氣RTP管式爐 168     

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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專(zhuān)為半導(dǎo)體基片、太陽(yáng)能電池及其他樣品（尺寸可達(dá)3英寸）的退火工藝設(shè)計(jì)。該設(shè)備配備三路浮子流量計(jì)和機(jī)械泵，真空度可達(dá)10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達(dá)100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設(shè)備還配有RS485接口和控制軟件，可通過(guò)計(jì)算機(jī)控制運(yùn)行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于快速熱處理金屬材料，優(yōu)化材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能。

1100℃快速熱處理爐 252     

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GSL-1100X-RTP50是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1100℃快速熱處理爐，專(zhuān)為高效熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，特別適用于冶金領(lǐng)域。其配備50mm外徑×44mm內(nèi)徑×304.8mm長(zhǎng)度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達(dá)1100℃。右側(cè)法蘭處安裝有滑軌，可手動(dòng)移動(dòng)爐管，實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。通過(guò)預(yù)熱爐子并快速插入爐管，可實(shí)現(xiàn)最快加熱；樣品加熱后移出爐管進(jìn)行強(qiáng)冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環(huán)境下可達(dá)10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結(jié)晶的理想設(shè)備，尤其適合高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行低成本、高效的材料實(shí)驗(yàn)。

1200℃小型滑軌RTP爐 256     

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OTF-1200X-50S-SL是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專(zhuān)為高效熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備外徑50mm、長(zhǎng)度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達(dá)15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結(jié)晶等實(shí)驗(yàn)，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

1200℃小型雙爐體滑動(dòng)管式爐 160     

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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動(dòng)管式爐，專(zhuān)為冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達(dá)1200℃。兩個(gè)爐體可在滑軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實(shí)驗(yàn)效率。此外，該設(shè)備還可選配電動(dòng)滑軌、質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿足更復(fù)雜的材料合成和薄膜制備需求。

1200℃三溫區(qū)滑軌爐 146     

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OTF-1200X-III-80SL是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃三溫區(qū)滑軌式管式爐，專(zhuān)為快速熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備直徑80mm、長(zhǎng)度94mm的石英管和法蘭，爐底安裝滑軌，支持手動(dòng)滑動(dòng)操作。該設(shè)備加熱和冷卻速率最高可達(dá)100℃/min，在真空或惰性氣體環(huán)境下可實(shí)現(xiàn)10℃/s的快速升降溫，能夠顯著提高實(shí)驗(yàn)效率并降低能耗。在冶金領(lǐng)域，該爐可用于快速熱處理金屬材料，研究材料在高溫下的相變和微觀結(jié)構(gòu)變化，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想選擇。

1200℃小型坩堝移動(dòng)管式爐 263     

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OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動(dòng)管式爐，專(zhuān)為直接蒸發(fā)沉積和快速熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，尤其適用于二維材料的生長(zhǎng)。其爐管直徑為50mm，最高工作溫度可達(dá)1200℃，通過(guò)磁鐵推動(dòng)坩堝移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)精確的材料沉積和熱處理。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究二維材料的生長(zhǎng)機(jī)制及其在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)，為開(kāi)發(fā)新型二維材料及其在冶金中的應(yīng)用提供重要支持。

1600℃水平式閃燒爐 153     

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GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式閃燒爐，專(zhuān)為快速燒結(jié)陶瓷材料而設(shè)計(jì)，配備3KW可編程交流電源，可通過(guò)電極法蘭將正負(fù)極電極絲引入剛玉樣品夾具，施加電場(chǎng)實(shí)現(xiàn)閃燒工藝。其最高溫度可達(dá)1600℃，采用硅鉬棒加熱元件，加熱區(qū)長(zhǎng)度為290mm，推薦升溫速率為≤10℃/min。相較于傳統(tǒng)燒結(jié)工藝，該設(shè)備具有超快速、節(jié)能且有利于制備細(xì)晶化陶瓷的優(yōu)勢(shì)。其可廣泛應(yīng)用于固體氧化物燃料電池、鐵電熱電陶瓷、固態(tài)電解質(zhì)等領(lǐng)域的材料燒結(jié)。在冶金領(lǐng)域，這種快速燒結(jié)技術(shù)可用于研究陶瓷材料的微觀結(jié)構(gòu)和性能，為開(kāi)發(fā)高性能陶瓷基復(fù)合材料提供支持。

1650℃真空感應(yīng)區(qū)熔爐 243     

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SKJ-1650-ZM是一款1650℃真空感應(yīng)區(qū)熔爐，由15KW感應(yīng)電源、密封石英管裝樣及測(cè)溫裝置、線圈和坩堝伺服升降機(jī)構(gòu)、水冷機(jī)以及PLC控制系統(tǒng)組成。該設(shè)備最高溫度可達(dá)1650℃，可在真空或氣氛環(huán)境下實(shí)現(xiàn)材料的熔化提純、定向凝固以及單晶生長(zhǎng)等實(shí)驗(yàn)工藝。在冶金領(lǐng)域，SKJ-1650-ZM可用于金屬材料的凈化提純和定向凝固，幫助研究人員開(kāi)發(fā)高性能金屬材料。

定向CVD生長(zhǎng)爐 257     

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OTF-1200X-50-DSL是一款專(zhuān)為定向生長(zhǎng)單壁碳納米管（SWCNTs）設(shè)計(jì)的水平滑軌式CVD生長(zhǎng)爐，同時(shí)也適用于在硅片上生長(zhǎng)低熔點(diǎn)金屬單晶。其爐管直徑為Φ50mm，爐體滑動(dòng)速度可在1mm/s至100mm/s范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并支持左右反復(fù)滑動(dòng)及自定義滑動(dòng)距離，為實(shí)驗(yàn)提供了高度的靈活性。該系統(tǒng)配備可設(shè)置30段程序的高溫爐、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭，能夠滿足多種材料生長(zhǎng)的需求。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究低熔點(diǎn)金屬的單晶生長(zhǎng)機(jī)制，為開(kāi)發(fā)高性能金屬材料提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

100ml鎳基合金高溫高壓反應(yīng)釜 252     

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RC-Ni-100是一款專(zhuān)為高溫高壓冶金實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的100ml反應(yīng)釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強(qiáng)度和抗氧化性。該設(shè)備最高工作溫度可達(dá)1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環(huán)境下對(duì)金屬樣品進(jìn)行熱處理，以及通過(guò)水熱法合成高性能冶金材料。其優(yōu)異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領(lǐng)域研究和開(kāi)發(fā)新型材料及工藝的理想工具。

晶體生長(zhǎng)爐 242     

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SKJ-50CZ是一款高質(zhì)量的CZ晶體生長(zhǎng)爐，最高溫度可達(dá)2100℃，適用于冶金領(lǐng)域中高純度金屬單晶及氧化物單晶的生長(zhǎng)。該設(shè)備可生長(zhǎng)藍(lán)寶石、GGG、YAG、LaAlO?、Si、Ge等多種材料，最大晶體尺寸可達(dá)3英寸。其配備中/高頻切換復(fù)合感應(yīng)電源，滿足不同材料的熔煉需求，同時(shí)采用高精度上稱重模式和在線稱量裝置，確保晶體生長(zhǎng)過(guò)程的精確控制。此外，設(shè)備還具備高真空度（最高可達(dá)5.0×10?3Pa）和全不銹鋼水冷腔體，保證生長(zhǎng)環(huán)境的穩(wěn)定。

1650℃布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐 146     

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SKJ-BG1650是一款高質(zhì)量的1650℃布里奇曼單晶生長(zhǎng)爐，適用于冶金領(lǐng)域中金屬單晶及多晶材料的生長(zhǎng)。該設(shè)備最高溫度可達(dá)1650℃，已成功生長(zhǎng)出Cu、Ag、Au、Fe和Mg等金屬單晶，單晶直徑可達(dá)37mm。它配備電動(dòng)坩堝放置系統(tǒng)，便于樣品的放置和取出。此外，該設(shè)備還可用于多晶棒的定向凝固，在冶金材料的研究和開(kāi)發(fā)中具有重要應(yīng)用價(jià)值。

懸浮提拉晶體生長(zhǎng)爐 159     

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SKJ-LCZ是一款特殊的提拉法（CZ）晶體生長(zhǎng)爐，采用懸浮熔煉技術(shù)，最高溫度可達(dá)2000℃，適用于生長(zhǎng)高純度金屬（合金）單晶。該設(shè)備由高頻感應(yīng)加熱電源、高真空腔體、水冷銅坩堝（懸浮熔煉）和精密提拉機(jī)構(gòu)組成。懸浮熔煉技術(shù)避免了坩堝對(duì)金屬樣品的污染，能夠生長(zhǎng)出高純度的金屬單晶。這種爐體設(shè)計(jì)在冶金領(lǐng)域具有重要意義，尤其適用于高純金屬及合金的單晶生長(zhǎng)，可廣泛用于研究和開(kāi)發(fā)高性能金屬材料。

火焰法單晶生長(zhǎng)爐 155     

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SKJ-VE2000是一款小型火焰法單晶生長(zhǎng)爐，最高溫度可達(dá)2000℃，專(zhuān)門(mén)用于生長(zhǎng)各種氧化物晶體，如SrTiO?、Al?O?和TiO?等。設(shè)備配備質(zhì)量流量計(jì)，可精確調(diào)節(jié)氫氣和氧氣流量，同時(shí)通過(guò)調(diào)節(jié)料斗震動(dòng)頻率控制粉料出料量，籽晶臺(tái)具備自動(dòng)下降和轉(zhuǎn)動(dòng)功能。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究高性能氧化物晶體的生長(zhǎng)機(jī)制，為開(kāi)發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化晶體生長(zhǎng)工藝提供重要的實(shí)驗(yàn)支持。

1800℃納米制備管式爐 268     

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GSL-1800X-PGEP是一款專(zhuān)為納米結(jié)構(gòu)氧化物合成設(shè)計(jì)的多功能系統(tǒng)，廣泛應(yīng)用于冶金領(lǐng)域。該系統(tǒng)由超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成，通過(guò)前驅(qū)體霧化、高溫加熱和納米顆粒收集三個(gè)步驟，實(shí)現(xiàn)納米材料的精確制備。其獨(dú)特的設(shè)計(jì)能夠精準(zhǔn)控制顆粒尺寸、形態(tài)以及納米/微粒結(jié)構(gòu)，為冶金研究提供了一種先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)手段，尤其適用于開(kāi)發(fā)高性能納米復(fù)合材料和新型冶金催化劑，助力冶金工藝的創(chuàng)新與優(yōu)化。

三溫區(qū)頂部籽晶助溶劑法（TSSG）單晶生長(zhǎng)爐 157     

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VTF-1200X-III-TSSG是一款3溫區(qū)頂部籽晶助熔劑法（TSSG）晶體生長(zhǎng)爐。此設(shè)備主要由3部分組成：3溫區(qū)加熱爐（爐膛尺寸為：Φ127mm×600mm,最高溫度為1200℃），溫控系統(tǒng)可設(shè)置28段溫度程序段，控溫精度±1℃和精密旋轉(zhuǎn)提拉機(jī)構(gòu)，其提拉速度為0.8-50mm/hour。

混合式小型晶體生長(zhǎng)爐 161     

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OTF-1200X-SCB是一款小型晶體生長(zhǎng)爐，適用于提拉法或布里奇曼法生長(zhǎng)單晶，其最高溫度可達(dá)1100℃。設(shè)備主要由提拉機(jī)構(gòu)和爐體組成，提拉機(jī)構(gòu)具有提拉&旋轉(zhuǎn)功能，爐體采用立式雙溫區(qū)管式爐，爐管為直徑為Φ50mm的石英管，并且配有不銹鋼密封法蘭，此設(shè)備可采用提拉法（用籽晶從熔融態(tài)原來(lái)中提拉出單晶）或布里奇曼法（將樣品封入到小石英試管里，石英試管在加熱區(qū)內(nèi)向下移動(dòng)）生長(zhǎng)各種單晶。

真空懸浮感應(yīng)熔煉爐＆澆注爐 175     

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FMF-65是一款落地式水冷坩堝真空懸浮感應(yīng)熔煉爐系統(tǒng)，并且?guī)в雄釄鍍A倒裝置，可做金屬澆注實(shí)驗(yàn)，可用于新一代磁性合金和金屬材料的探索研究。設(shè)備中包含一功率高達(dá)65KW的感應(yīng)熔煉爐，可有效地加熱高達(dá)250g的金屬樣品（Ti），最高加熱溫度達(dá)1800℃。不銹鋼真空腔體保證樣品可在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熔煉，采用特殊樣式的水冷銅坩堝使得金屬樣品能夠在熔煉過(guò)程中懸浮，避免了坩堝對(duì)物料的污染。熔煉過(guò)程中強(qiáng)烈的電磁攪拌也能夠保證其樣品內(nèi)部的溫度及化學(xué)成分的均一性。

2000℃高真空氣氛燒結(jié)爐 150     

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GSL-2000X-HV是一款高性能的高溫高真空氣氛燒結(jié)爐，最高燒結(jié)溫度可達(dá)2000℃，真空度高達(dá)10?? Torr（配備擴(kuò)散泵），能夠滿足多種材料在不同氣氛條件下的燒結(jié)需求。設(shè)備安裝尺寸為1300mm×700mm×1750mm，重量為520kg，適用于高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行高溫材料合成、陶瓷燒結(jié)、金屬加工等實(shí)驗(yàn)，是材料科學(xué)研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

1700℃氣氛保護(hù)小型金屬熔煉鑄造爐 166     

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IMCS-1700-S是一款小型金屬熔煉/鑄造爐，最高溫度可達(dá)1700℃，專(zhuān)為在惰性氣體保護(hù)環(huán)境下熔煉和鑄造各種合金設(shè)計(jì)，最大熔煉量約為80g。設(shè)備安裝尺寸為560mm×540mm×610mm（長(zhǎng)×寬×高），重量為120kg，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境，是高校、科研機(jī)構(gòu)及企業(yè)進(jìn)行合金研發(fā)和材料實(shí)驗(yàn)的理想選擇。