1200℃箱式氣氛爐 278     

 0

KSL-1200X-H2是一款通過CE認證和TUV/UL認證的1200℃箱式氣氛爐，專為氫氣環(huán)境下的熱處理設計。其爐腔采用五面加熱設計，確保溫場均勻，最高溫度可達1200℃，連續(xù)工作溫度為1100℃。該設備配備Kathal公司的Fe-Cr-Al合金加熱元件，爐膛尺寸為400×400×400mm，具有真空密封和水冷系統(tǒng)，確保操作安全。爐頂安裝有氫氣自動點火裝置，可自動點燃排除的氫氣，保障使用安全。此外，該設備還可在惰性或氧氣環(huán)境下對材料進行熱處理，特別適合于熒光粉和鈦合金等材料的熱處理。

1200℃帶有溫度校準系統(tǒng)的開啟式管式爐 184     

 0

OTF-1200X-S50-LVT是一款通過CE認證的小型開啟式管式爐，最高溫度可達1200℃，適用于冶金及材料科學實驗。該設備配備精密的真空測試儀表、真空泵和OMEGA測溫儀表，能夠精確測量燒結樣品的實際溫度。其控溫儀表可設置30段升降溫程序，控溫精度為±1℃，確保實驗過程的精確控制。在冶金領域，OTF-1200X-S50-LVT可用于金屬材料的高溫真空處理、合金的熱處理以及材料在不同氣氛下的性能研究，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。

氣體可流動高溫高壓管式爐 173     

 0

OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款專為冶金及材料科學實驗設計的高溫高壓管式爐，爐體配備三個獨立溫區(qū)，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。該設備配備氣體控制柜，可在升降溫過程中保持爐管內(nèi)氣壓恒定，特別適用于氧化物的處理，能夠維持穩(wěn)定的氧分壓。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，最高耐溫可達1100℃，特別適合對氧化物超導線和氧化物陶瓷進行熱處理。這種設計使其在冶金領域中可用于研究氧化物材料的高溫合成、熱處理及性能優(yōu)化，為開發(fā)高性能陶瓷材料和超導材料提供重要的實驗支持。

800℃超高真空管式爐 178     

 0

OTF-1200X-60HV是一款通過CE認證的800℃超高真空管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用直徑60mm的SS-310S不銹鋼管，法蘭接口為KF25接口，采用CF法蘭，真空度可達10?? Torr。該設備配備PID 30段程序化控溫系統(tǒng)，控溫精度為±1℃，能夠滿足高溫真空環(huán)境下的精確控溫需求。在冶金領域，OTF-1200X-60HV可用于金屬材料的高溫真空處理，例如退火、氧化還原反應等，有助于研究材料在極端條件下的性能變化。

磁場真空退火爐 164     

 0

GSL-1200X-MH4是一款專為冶金及磁性材料研究設計的磁場真空退火爐，最高溫度可達1200℃。該設備配備水冷層和真空絕緣層，能夠在磁場中對磁性材料進行退火處理，顯著提升材料的磁性能。其獨特的設計使其在冶金領域中可用于研究磁性合金的退火工藝、優(yōu)化材料的磁性能和微觀結構，為高性能磁性材料的開發(fā)提供重要的實驗支持。

熱重分析真空氣氛管式爐 144     

 0

OTF-X-TGA是一款具有TGA熱重分析功能的立式管式爐，最高溫度可達1700℃（可定制），特別適用于冶金及材料科學中的高溫實驗。與傳統(tǒng)TGA裝置相比，該設備可裝載超過100g的樣品，提供更準確的工業(yè)級實驗結果。它能夠在真空或氣氛保護環(huán)境下（包括H?環(huán)境）進行熱重實驗，研究材料加工過程中的相變。此外，OTF-X-TGA還可連接氣體分析裝置，實時監(jiān)測加熱過程中氣體成分和重量的變化。這種功能對于冶金領域中研究金屬材料的氧化、還原過程以及合金的相變行為具有重要意義。

1700℃帶鉸鏈式法蘭管式爐 282     

 0

GSL-1700X-HNG是一款通過CE認證的1700℃高溫管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用高純剛玉材質(zhì)，具有優(yōu)異的高溫穩(wěn)定性和抗腐蝕性，最高溫度可達1700℃，特別適合用于高溫燒結各種金屬、合金及陶瓷材料。設備配備折疊式法蘭，使放樣和取樣更加便捷，同時采用30段升降溫程序控溫，控溫精度為±1℃，能夠滿足復雜的冶金工藝需求，為高性能材料的開發(fā)和研究提供可靠的實驗支持。

1100℃Φ50管式高壓爐 161     

 0

OTF-1200X-60UV是一款通過CE認證的高溫高壓管式爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管采用鎳基合金鋼管，具有優(yōu)異的抗氧化性能，可在高溫狀態(tài)下通入氧氣和水蒸氣，最高溫度可達1100℃，最大真空度可達10?? Torr。這種設計使其特別適合用于冶金領域中的高溫氧化實驗、合金熱處理以及材料在極端條件下的性能研究，為開發(fā)高性能金屬材料和復合材料提供可靠的實驗支持。

1700℃小型4通道管式爐 361     

 0

GSL-1700X-MGI-4是一款專為高通量熱處理實驗設計的小型4通道管式爐，爐管直徑為Φ25mm，最高溫度可達1700℃。該設備特別適用于合金和陶瓷的熱處理，能夠高效完成多種材料的高溫實驗。其多通道設計可同時處理多個樣品，顯著提高實驗效率，是材料基因計劃中探索材料相圖和優(yōu)化合金性能的理想工具。在冶金領域，該設備可用于研究合金的熱處理工藝、相變行為以及陶瓷材料的燒結特性，為高性能材料的研發(fā)提供重要支持。

1100℃ 十溫區(qū)高壓管式爐 263     

 0

OTF-1200X-X-85GF是一款專為高溫高壓材料合成設計的1100℃十溫區(qū)管式爐，爐管采用Ni基合金鋼制作，能夠在氧或惰性氣體環(huán)境下承受高溫高壓（最高溫度1000℃）。該設備配備壓力和氣體流量控制系統(tǒng)，確保升溫和降溫過程中爐管內(nèi)壓力穩(wěn)定。其獨特的十溫區(qū)設計可實現(xiàn)精確的溫度控制，特別適用于制備Fe基超導材料和新一代氧化物陶瓷材料。在冶金領域，該設備可用于研究新型材料的高溫合成機制和性能優(yōu)化，為高性能材料的開發(fā)提供有力支持。

1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐 143     

 0

OTF-1200X-80-HPV-III-GF是一款1100℃三溫區(qū)高壓高真空管式爐，專為高溫高壓及高真空條件下的冶金實驗設計。其爐管采用鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和耐高壓性能，最高工作溫度可達1100℃，在此溫度下可承受的最大壓力為4MPa。三個獨立控制的加熱區(qū)能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制，滿足復雜的冶金工藝需求。該設備適用于金屬材料的高溫合成、熱處理以及在高真空或高壓氣氛下的性能研究，為冶金領域提供了一個高效、可靠的實驗平臺。

帶有光學窗口的高溫高壓爐 157     

 0

OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，專為高溫高壓環(huán)境下的光學氣體分析實驗設計。其爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，具有優(yōu)異的耐高溫和抗氧化性能，最高工作溫度可達1100℃。兩端法蘭上安裝的石英窗口能夠允許各種波長的光通過整個爐管，便于實時監(jiān)測實驗過程中的光學變化。這種設計特別適合冶金領域中對金屬材料在高溫高壓條件下的反應過程進行光學分析，為研究材料的相變、氧化還原行為等提供重要支持。

1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐 148     

 0

OTF-1200X-II-HPV是一款1100℃雙溫區(qū)立式高溫高壓爐，專為冶金領域設計。其爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有高蠕變強度和抗氧化性，可承受最高溫度1100℃，在此溫度下最大壓力為3MPa。該設備特別適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進行熱處理，也可用于水浴法制備材料。法蘭上安裝的電磁閥可在壓力超過設定值時自動排氣，確保實驗安全。其雙溫區(qū)設計能夠滿足復雜的冶金工藝需求，為金屬材料的高溫高壓研究提供可靠的實驗平臺。

1600℃高溫高壓燒結爐 254     

 0

GSL-1600-HP是一款專為冶金領域設計的高溫高壓氣氛燒結爐，最高溫度可達1600℃，最高壓力可達10MPa，能夠滿足高溫高壓下材料的燒結需求。其大型爐腔和高壓力設計使其特別適合用于燒結高性能金屬陶瓷、硬質(zhì)合金等材料，為冶金研究和生產(chǎn)提供可靠的高溫高壓環(huán)境，是開發(fā)新型冶金材料和優(yōu)化燒結工藝的理想設備。

氫爆爐 293     

 0

OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標準的氫氣管式爐，專為冶金領域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環(huán)境下的熱處理設計。該設備配備5個獨立溫控系統(tǒng)的溫區(qū)，爐管采用310不銹鋼材質(zhì)，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設備內(nèi)置3M氫氣探測器，一旦檢測到氫氣泄漏，將自動關閉進氣閥和出氣閥，確保實驗過程的安全。其最高溫度可達1200℃，適用于對氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機構和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想設備。

10英寸氫氣管式爐 235     

 0

OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標準的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領域中的Ti合金退火和對氧敏感材料的熱處理設計。其爐管采用NiCrAl合金材質(zhì)，具有優(yōu)異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設計有3個加熱區(qū)，最高溫度可達1250℃。該設備能夠在高真空或氫氣環(huán)境下進行熱處理，特別適用于對材料微觀結構和性能有嚴格要求的冶金實驗，為高性能金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供可靠的高溫處理解決方案。

大面積雙管石墨烯生長爐 261     

 0

GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長設計的三溫區(qū)大型雙管爐，最高溫度可達1100℃。其獨特的雙管設計通過CVD方法在箔材上實現(xiàn)大面積（約7000cm2）材料生長，箔材纏繞在內(nèi)管外壁上，送管裝置可輕松將內(nèi)管送入或取出外管。該設備不僅適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開發(fā)高性能復合材料和新型電極材料提供有力支持。

900℃ 雙溫區(qū)RTP爐 253     

 0

OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區(qū)紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護環(huán)境下實現(xiàn)樣品的快速移動。該設備最大升溫速率達到50℃/s，最大冷卻速率達到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務。此外，它還可通過HPCVD方法生長二維晶體，一個加熱區(qū)用于蒸發(fā)固體原料，另一個加熱區(qū)用于樣品沉積，特別適用于冶金領域中二維材料的生長和金屬薄膜的制備。

1200℃坩堝可移動型管式爐 252     

 0

OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐，專為冶金及材料合成實驗設計。其爐管直徑為50mm，配備步進電機控制坩堝在爐管內(nèi)的移動，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制和材料處理。這種設計特別適合用于冶金領域中的材料蒸發(fā)、升華以及薄膜沉積等實驗，可有效控制材料的生長過程和微觀結構，為研究高性能金屬材料和復合材料提供重要的實驗支持。

900℃帶3路浮子混氣RTP管式爐 162     

 0

RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專為半導體基片、太陽能電池及其他樣品（尺寸可達3英寸）的退火工藝設計。該設備配備三路浮子流量計和機械泵，真空度可達10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設備還配有RS485接口和控制軟件，可通過計算機控制運行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領域，該設備可用于快速熱處理金屬材料，優(yōu)化材料的微觀結構和性能。

1100℃快速熱處理爐 246     

 0

GSL-1100X-RTP50是一款通過CE認證的1100℃快速熱處理爐，專為高效熱處理實驗設計，特別適用于冶金領域。其配備50mm外徑×44mm內(nèi)徑×304.8mm長度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達1100℃。右側(cè)法蘭處安裝有滑軌，可手動移動爐管，實現(xiàn)快速加熱和冷卻。通過預熱爐子并快速插入爐管，可實現(xiàn)最快加熱；樣品加熱后移出爐管進行強冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環(huán)境下可達10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結晶的理想設備，尤其適合高校、科研機構和企業(yè)實驗室進行低成本、高效的材料實驗。

1200℃小型滑軌RTP爐 248     

 0

OTF-1200X-50S-SL是一款通過CE認證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專為高效熱處理實驗設計。其配備外徑50mm、長度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結晶等實驗，是高校、科研機構和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想設備。

1200℃小型雙爐體滑動管式爐 149     

 0

OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動管式爐，專為冶金領域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實驗設計。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實驗效率。此外，該設備還可選配電動滑軌、質(zhì)量流量計（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿足更復雜的材料合成和薄膜制備需求。

1200℃三溫區(qū)滑軌爐 141     

 0

OTF-1200X-III-80SL是一款通過CE認證的1200℃三溫區(qū)滑軌式管式爐，專為快速熱處理實驗設計。其配備直徑80mm、長度94mm的石英管和法蘭，爐底安裝滑軌，支持手動滑動操作。該設備加熱和冷卻速率最高可達100℃/min，在真空或惰性氣體環(huán)境下可實現(xiàn)10℃/s的快速升降溫，能夠顯著提高實驗效率并降低能耗。在冶金領域，該爐可用于快速熱處理金屬材料，研究材料在高溫下的相變和微觀結構變化，是高校、科研機構和企業(yè)實驗室進行材料研究和開發(fā)的理想選擇。

1200℃小型坩堝移動管式爐 254     

 0

OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動管式爐，專為直接蒸發(fā)沉積和快速熱處理實驗設計，尤其適用于二維材料的生長。其爐管直徑為50mm，最高工作溫度可達1200℃，通過磁鐵推動坩堝移動，實現(xiàn)精確的材料沉積和熱處理。在冶金領域，該設備可用于研究二維材料的生長機制及其在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)，為開發(fā)新型二維材料及其在冶金中的應用提供重要支持。

1600℃水平式閃燒爐 146     

 0

GSL-1600X-FS3KW是一款1600℃水平式閃燒爐，專為快速燒結陶瓷材料而設計，配備3KW可編程交流電源，可通過電極法蘭將正負極電極絲引入剛玉樣品夾具，施加電場實現(xiàn)閃燒工藝。其最高溫度可達1600℃，采用硅鉬棒加熱元件，加熱區(qū)長度為290mm，推薦升溫速率為≤10℃/min。相較于傳統(tǒng)燒結工藝，該設備具有超快速、節(jié)能且有利于制備細晶化陶瓷的優(yōu)勢。其可廣泛應用于固體氧化物燃料電池、鐵電熱電陶瓷、固態(tài)電解質(zhì)等領域的材料燒結。在冶金領域，這種快速燒結技術可用于研究陶瓷材料的微觀結構和性能，為開發(fā)高性能陶瓷基復合材料提供支持。

1650℃真空感應區(qū)熔爐 229     

 0

SKJ-1650-ZM是一款1650℃真空感應區(qū)熔爐，由15KW感應電源、密封石英管裝樣及測溫裝置、線圈和坩堝伺服升降機構、水冷機以及PLC控制系統(tǒng)組成。該設備最高溫度可達1650℃，可在真空或氣氛環(huán)境下實現(xiàn)材料的熔化提純、定向凝固以及單晶生長等實驗工藝。在冶金領域，SKJ-1650-ZM可用于金屬材料的凈化提純和定向凝固，幫助研究人員開發(fā)高性能金屬材料。

定向CVD生長爐 250     

 0

OTF-1200X-50-DSL是一款專為定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）設計的水平滑軌式CVD生長爐，同時也適用于在硅片上生長低熔點金屬單晶。其爐管直徑為Φ50mm，爐體滑動速度可在1mm/s至100mm/s范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并支持左右反復滑動及自定義滑動距離，為實驗提供了高度的靈活性。該系統(tǒng)配備可設置30段程序的高溫爐、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭，能夠滿足多種材料生長的需求。在冶金領域，該設備可用于研究低熔點金屬的單晶生長機制，為開發(fā)高性能金屬材料提供重要的實驗支持。

100ml鎳基合金高溫高壓反應釜 245     

 0

RC-Ni-100是一款專為高溫高壓冶金實驗設計的100ml反應釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強度和抗氧化性。該設備最高工作溫度可達1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環(huán)境下對金屬樣品進行熱處理，以及通過水熱法合成高性能冶金材料。其優(yōu)異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領域研究和開發(fā)新型材料及工藝的理想工具。

晶體生長爐 240     

 0

SKJ-50CZ是一款高質(zhì)量的CZ晶體生長爐，最高溫度可達2100℃，適用于冶金領域中高純度金屬單晶及氧化物單晶的生長。該設備可生長藍寶石、GGG、YAG、LaAlO?、Si、Ge等多種材料，最大晶體尺寸可達3英寸。其配備中/高頻切換復合感應電源，滿足不同材料的熔煉需求，同時采用高精度上稱重模式和在線稱量裝置，確保晶體生長過程的精確控制。此外，設備還具備高真空度（最高可達5.0×10?3Pa）和全不銹鋼水冷腔體，保證生長環(huán)境的穩(wěn)定。