高真空加熱裝置
高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備,具備優(yōu)異的真空性能,極限真空度可達<6.7x10??Pa,漏率優(yōu)于1.0x10??Pa·L/s,采用分子泵+干泵的抽氣機組,提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體,內(nèi)部尺寸至少為直徑中50mmx100mm,加熱爐內(nèi)最高加熱溫度達800℃,控溫精度為±1℃,且外殼溫度低于200℃。此外,裝置還具備氙氣循環(huán)降溫系統(tǒng),保護罐體密封口,以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統(tǒng)聯(lián)鎖保護功能的電控系統(tǒng)。
1、真空度及漏率:
1.1、系統(tǒng)極限真空度<6.7x10-5Pa,系統(tǒng)漏率優(yōu)于1.0x10-7Pa.L/s;
1.2、真空抽氣機組采用分子泵+干泵的抽氣機組;
1.3、真空獲得系統(tǒng)分為快抽和慢抽兩種抽氣方式。
2、真空罐體:
真空罐體材料選擇316L不銹鋼,罐體內(nèi)部尺寸不小于直徑中50mmx100mm。
3、加熱爐:
3.1、加熱爐外殼溫度要低于200℃℃;
3.2、加熱爐內(nèi)最高加熱溫度800℃℃,控溫精度+1℃℃;
3.3、加熱均溫區(qū):φ50x50mm(真空罐體底部);
3.4、程序控溫,PID調(diào)節(jié)
4、氣體降溫循環(huán)系統(tǒng):
采用氙氣循環(huán)的方式對真空罐體的外殼管道進行降溫,以避免高溫對罐體上蓋密封口的氣橡膠圈造成損壞
5、電控系統(tǒng):
電控系統(tǒng)主要有以下功能:
5.1 真空機組控制;
5.2 真空度的顯示和溫度控制;
5.3 系統(tǒng)的聯(lián)鎖保護功能。