化學(xué)氣相沉積CVD
化學(xué)氣相沉積(CVD)是一種在冶金和材料工程中廣泛應(yīng)用的技術(shù),它通過(guò)在高溫下將氣態(tài)物質(zhì)轉(zhuǎn)化為固態(tài)薄膜,用于制造各種高性能材料。CVD技術(shù)在冶金行業(yè)中主要用于制備高純度、高性能的金屬和陶瓷涂層,這些涂層可以顯著提高材料的耐磨性、耐腐蝕性和高溫穩(wěn)定性。
CVD設(shè)備主要由高真空獲得與測(cè)量系統(tǒng)、反應(yīng)石英管、管式電阻爐、氣路系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等五部分組成。高真空機(jī)組采用復(fù)合分子泵和機(jī)械泵組成,確保了極限真空度達(dá)到≤8.0×10^-5Pa,漏率≤10^-7Pa·L/s,為CVD過(guò)程提供了理想的高真空環(huán)境。管式電阻爐上開蓋結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),方便裝卸石英管,提高了操作的便捷性。
一、設(shè)備主要功能及組成
1.設(shè)備主要由高真空獲得與測(cè)量系統(tǒng)、反應(yīng)石英管、管式電阻爐、氣路系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等五部分組成。
2.高真空機(jī)組采用復(fù)合分子泵和機(jī)械泵組成。
3.管式電阻爐上開蓋結(jié)構(gòu),方便裝卸石英管。
4.多種工藝氣體可選,氣路系統(tǒng)定制。
5.電氣控制系統(tǒng)具有多種報(bào)警功能,能及時(shí)提示故障情況,保障設(shè)備安全運(yùn)行。
二、主要技術(shù)參數(shù)
1.石英爐管尺寸:?30×700(可定制)
2.極限真空度:≤8.0×10-5Pa
3.漏率:≤10-7Pa·L/s
4.最高加熱溫度:1100℃(可定制)
5.氣路系統(tǒng):定制(采用高精度MFC質(zhì)量流量控制器)
6.供電電源:380V50Hz(三相五線制)
7.進(jìn)水排管徑:DN25
8.工作水壓:0.2Mpa