高真空電子束熱蒸發(fā)系統(tǒng) E-Beam
高真空電子束熱蒸發(fā)系統(tǒng)（E-Beam）是冶金和材料科學(xué)領(lǐng)域中一種精密的真空鍍膜設(shè)備。該系統(tǒng)利用電子束蒸發(fā)源技術(shù)，能夠?qū)崿F(xiàn)高效率和高精度的材料蒸發(fā)與沉積，適用于制備各種金屬、合金以及化合物薄膜。在冶金行業(yè)中，這種系統(tǒng)特別適用于高性能材料的制備，如高溫合金、磁性材料、光學(xué)涂層和電子材料等。
一、 設(shè)備主要功能及組成
1. 設(shè)備主要由高真空獲得與測量系統(tǒng)、樣品臺或工件轉(zhuǎn)架系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等四部分組成。
2. 高真空機(jī)組采用復(fù)合分子泵和機(jī)械泵組成。
3. 樣品臺或工件轉(zhuǎn)架系統(tǒng)可根據(jù)工藝需要靈活定制所需功能。
4. 電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)采用E型電子槍，270°束偏角，具有XY掃描功能，能實(shí)現(xiàn)坩堝內(nèi)材料均勻熔煉。
5. 標(biāo)配膜厚控制儀，進(jìn)行在線測量和監(jiān)控。
6. 電氣控制系統(tǒng)具有多種報(bào)警功能，能及時(shí)提示故障情況，保障設(shè)備安全運(yùn)行。
二、 主要技術(shù)參數(shù)
1． 真空室尺寸：EB500、EB600（定制）
2． 極限真空度：≤6.7×10-5Pa
3． 漏率：≤10-7 Pa?L/s
4． 電子槍電源功率：6Kw
5． 電子槍高壓：6KV / 8KV可轉(zhuǎn)換
6． 最大電子束流：750mA
7． 坩堝容積：20ml（可定制）
8． 樣品臺：可在線升降、旋轉(zhuǎn)、襯底加熱
9． 工件轉(zhuǎn)架：行星式工件架，公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)，增強(qiáng)鍍膜均勻性，可加熱
10． 可選配工藝系統(tǒng)：手套箱工作站、樣品預(yù)處理室、自動(dòng)樣品庫等
11． 供電電源：380V 50Hz（三相五線制）
12． 進(jìn)水排管徑：DN25
13． 工作水壓：0.2Mpa
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河南 - 鄭州
2025年03月21日 ~ 23日
