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小型熔銀爐是冶金領(lǐng)域中高效、節(jié)能且環(huán)保的熔煉設(shè)備，特別適合中小企業(yè)的發(fā)展需求。與傳統(tǒng)熔爐相比，它采用迷你型中頻感應(yīng)加熱電源，體積小、質(zhì)量輕，同時(shí)具備更高的工作性能。其電源采用IGBT進(jìn)口功率器件，集成化程度高，有效輸出功率達(dá)90%以上，比傳統(tǒng)可控硅中頻節(jié)能40%，熔煉時(shí)間僅需30-40分鐘一爐。高頻熔銀爐則可實(shí)現(xiàn)24小時(shí)不間斷熔煉，具備超強(qiáng)的省電能力，適用于鋼、不銹鋼、銅、鋁、金、銀等材料的熔煉。

小型熔金爐就是專(zhuān)門(mén)對(duì)金、銀、銅等金屬進(jìn)行熔煉和鍛造，它采用感應(yīng)加熱的方法來(lái)熔煉(熔化)，既能快速加熱貴重金屬，同時(shí)在加熱工程中又對(duì)金屬進(jìn)行電磁攪拌的功能，能獲得溫度與成分高度均勻的金屬液。

VBF-1200X-H8是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃小型水平真空坩堝爐，專(zhuān)為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其加熱絲均勻分布在石英腔體外側(cè)，腔體尺寸為Φ200×340mm，水平安裝，配備專(zhuān)用水冷法蘭及針閥密封。使用雙旋片機(jī)械泵或分子泵機(jī)組時(shí)，真空度可達(dá)10?2～10?? Torr。該設(shè)備特別適合在真空或各種氣氛條件下對(duì)金屬、非金屬及其他化合物材料進(jìn)行燒結(jié)、融化和分析，是高等院校、科研院所及工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室的理想設(shè)備。在冶金領(lǐng)域，VBF-1200X-H8可用于金屬材料的高溫?zé)Y(jié)、合金的熱處理以及金屬氧化物的還原等實(shí)驗(yàn)。

VBF-1200X是一款1200℃小型立式箱式爐，專(zhuān)為冶金及材料科學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用進(jìn)口電阻絲作為加熱元件，配備K型熱電偶和30段可編程溫度控制器，能夠?qū)崿F(xiàn)精確的溫度控制。其上開(kāi)式爐門(mén)結(jié)構(gòu)方便樣品的放置和取出。該爐具有體積小、重量輕、溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快以及節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，特別適合高校、科研院所和工礦企業(yè)進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)、金屬退火及質(zhì)量檢測(cè)等實(shí)驗(yàn)。在冶金領(lǐng)域，VBF-1200X可用于研究金屬材料的熱處理工藝、相變行為以及合金的微觀結(jié)構(gòu)優(yōu)化。

GSL-1700X-MGI-4是一款專(zhuān)為高通量熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的小型4通道管式爐，爐管直徑為Φ25mm，最高溫度可達(dá)1700℃。該設(shè)備特別適用于合金和陶瓷的熱處理，能夠高效完成多種材料的高溫實(shí)驗(yàn)。其多通道設(shè)計(jì)可同時(shí)處理多個(gè)樣品，顯著提高實(shí)驗(yàn)效率，是材料基因計(jì)劃中探索材料相圖和優(yōu)化合金性能的理想工具。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究合金的熱處理工藝、相變行為以及陶瓷材料的燒結(jié)特性，為高性能材料的研發(fā)提供重要支持。

OTF-1200X-50S-SL是一款通過(guò)CE認(rèn)證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專(zhuān)為高效熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備外徑50mm、長(zhǎng)度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環(huán)境下的冷卻速率可達(dá)15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領(lǐng)域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優(yōu)化以及快速結(jié)晶等實(shí)驗(yàn)，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研究和開(kāi)發(fā)的理想設(shè)備。

OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動(dòng)管式爐，專(zhuān)為冶金領(lǐng)域中的材料蒸發(fā)/升華和薄膜沉積實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達(dá)1200℃。兩個(gè)爐體可在滑軌上滑動(dòng)，實(shí)現(xiàn)快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實(shí)驗(yàn)效率。此外，該設(shè)備還可選配電動(dòng)滑軌、質(zhì)量流量計(jì)（MFC）控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統(tǒng)，滿(mǎn)足更復(fù)雜的材料合成和薄膜制備需求。

OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩堝移動(dòng)管式爐，專(zhuān)為直接蒸發(fā)沉積和快速熱處理實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)，尤其適用于二維材料的生長(zhǎng)。其爐管直徑為50mm，最高工作溫度可達(dá)1200℃，通過(guò)磁鐵推動(dòng)坩堝移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)精確的材料沉積和熱處理。在冶金領(lǐng)域，該設(shè)備可用于研究二維材料的生長(zhǎng)機(jī)制及其在高溫環(huán)境下的性能表現(xiàn)，為開(kāi)發(fā)新型二維材料及其在冶金中的應(yīng)用提供重要支持。

OTF-1200X-SCB是一款小型晶體生長(zhǎng)爐，適用于提拉法或布里奇曼法生長(zhǎng)單晶，其最高溫度可達(dá)1100℃。設(shè)備主要由提拉機(jī)構(gòu)和爐體組成，提拉機(jī)構(gòu)具有提拉&旋轉(zhuǎn)功能，爐體采用立式雙溫區(qū)管式爐，爐管為直徑為Φ50mm的石英管，并且配有不銹鋼密封法蘭，此設(shè)備可采用提拉法（用籽晶從熔融態(tài)原來(lái)中提拉出單晶）或布里奇曼法（將樣品封入到小石英試管里，石英試管在加熱區(qū)內(nèi)向下移動(dòng)）生長(zhǎng)各種單晶。

IMCS-1700-S是一款小型金屬熔煉/鑄造爐，最高溫度可達(dá)1700℃，專(zhuān)為在惰性氣體保護(hù)環(huán)境下熔煉和鑄造各種合金設(shè)計(jì)，最大熔煉量約為80g。設(shè)備安裝尺寸為560mm×540mm×610mm（長(zhǎng)×寬×高），重量為120kg，結(jié)構(gòu)緊湊，適合實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境，是高校、科研機(jī)構(gòu)及企業(yè)進(jìn)行合金研發(fā)和材料實(shí)驗(yàn)的理想選擇。

SP-MSM208是一款小型電弧熔煉爐，帶有吸鑄系統(tǒng)，可以鑄造出直徑為6mm的金屬棒。通過(guò)真空吸附將熔融態(tài)的金屬迅速吸入到銅模中，得到縮孔較少的金屬棒。設(shè)備上安裝有樣品反轉(zhuǎn)桿，可在不破壞真空的環(huán)境下，對(duì)樣品進(jìn)行翻轉(zhuǎn)。SS304不銹鋼腔體保證了一個(gè)潔凈的熔煉環(huán)境，可滿(mǎn)足各種嚴(yán)苛的實(shí)驗(yàn)要求。

KSL-1100X-SV是一款通過(guò)CE認(rèn)證的小型坩堝爐，此爐適用于熔煉各種金屬，如Al, Au,Li In ， Li， Mg等等，其最高溫度可達(dá)1100℃，同時(shí)也可用于各種材料的退火和燒結(jié)。可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC。

OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4溫區(qū)管式爐，所有電器元件都通過(guò)了UL / MET / CSA認(rèn)證。此款管式爐最高工作溫度1100℃，共有4個(gè)溫區(qū)，每個(gè)溫區(qū)長(zhǎng)度為100mmL爐管直徑為25mm或50mm,并配有一套不銹鋼密封法蘭，可對(duì)樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熱處理。每個(gè)溫區(qū)由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制，都可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃。

OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)爐，配備Φ50異型石英管，專(zhuān)為實(shí)現(xiàn)粉體材料燒結(jié)的均勻性而設(shè)計(jì)，尤其適用于鋰離子電池陰極材料表面導(dǎo)電層的CVD包覆工藝。其安裝尺寸為L(zhǎng)1000mm×W300mm×H390mm，重量?jī)H18kg，結(jié)構(gòu)緊湊、輕便易用，能夠有效提升材料處理的均勻性和效率，是高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行材料研發(fā)和工藝優(yōu)化的理想選擇。

OTF-1200X-50S-PE-SL是一款小型滑動(dòng)開(kāi)啟式PECVD管式爐系統(tǒng)，專(zhuān)為高效薄膜沉積實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)配備等離子射頻電源、直徑50mm的開(kāi)啟式管式爐（含真空法蘭和連接管道）以及機(jī)械泵，能夠?qū)崿F(xiàn)穩(wěn)定的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。其安裝尺寸為1500mm×600mm×1200mm，重量約160kg，結(jié)構(gòu)緊湊且操作便捷。此外，該設(shè)備可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求靈活升級(jí)為不同類(lèi)型的PECVD系統(tǒng)，性?xún)r(jià)比高，非常適合高校、科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室在薄膜制備、材料表面改性等領(lǐng)域的研究應(yīng)用。

高頻小型熔金爐是一種高效、節(jié)能且可靠的金屬熔煉設(shè)備，采用全固態(tài)IGBT變頻及功率調(diào)節(jié)技術(shù)，具備全方位的保護(hù)功能，如過(guò)流、欠水、過(guò)熱、過(guò)壓、短路和缺相保護(hù)，極大提升了設(shè)備的穩(wěn)定性和安全性。設(shè)備配備多種顯示功能，包括電流、電壓和時(shí)間顯示，使工作狀態(tài)直觀可見(jiàn)，便于操作和維護(hù)。其超小體積、輕便重量和可移動(dòng)性，占地不足1平方米，為客戶(hù)節(jié)省大量生產(chǎn)空間。此外，該設(shè)備支持100%全負(fù)載、24小時(shí)連續(xù)工作，尤其在加熱不銹鋼、銅、工業(yè)硅、鋁等不導(dǎo)磁物質(zhì)時(shí)，融化速度快，材料元素?zé)龘p少，節(jié)能20%以上，顯著降低成本。

小型真空鎢絲燒結(jié)爐是專(zhuān)為大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的緊湊型實(shí)驗(yàn)真空爐。該爐采用數(shù)控焊接外殼和真空管路，確保無(wú)泄漏運(yùn)行。其快速連接的電氣接頭便于搬遷和調(diào)試，而標(biāo)準(zhǔn)的電控柜則為操作提供了安全和便利。爐子的內(nèi)表面經(jīng)過(guò)精密拋光，氦質(zhì)譜真空檢漏儀確保了高真空完整性。該爐采用立式結(jié)構(gòu)、一體化箱體和移動(dòng)輪，占用空間小，移動(dòng)方便。電動(dòng)升降爐底提高了運(yùn)行的可靠性和平穩(wěn)性。

2100℃感應(yīng)加熱220V小型熔煉爐是一款高效、便捷的熔煉設(shè)備，專(zhuān)為熔煉鉑金、黃金等貴金屬設(shè)計(jì)，最高工作溫度可達(dá)2100℃。設(shè)備操作簡(jiǎn)單，2-3分鐘即可完成一爐熔煉，具有超高性?xún)r(jià)比。采用智能控制系統(tǒng)，極簡(jiǎn)界面方便新手快速上手；電磁感應(yīng)式加熱技術(shù)，加熱速度快，2-3分鐘即可完成一爐熔煉。配備PID精準(zhǔn)溫控系統(tǒng)，溫度精度可達(dá)±1℃，低功率運(yùn)行，抗干擾能力強(qiáng)，響應(yīng)速度快。大部分配件采用國(guó)際知名品牌，確保設(shè)備質(zhì)量可靠。

小型箱式電阻爐是一種緊湊型的工業(yè)爐，主要用于金屬熔煉和熱處理。它通過(guò)電阻加熱元件產(chǎn)生熱量，能夠快速、均勻地加熱爐內(nèi)物料。該設(shè)備具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、能耗低等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于鋁、鋅、錫等低熔點(diǎn)金屬的熔煉，以及金屬零件的退火、淬火、回火等熱處理工藝。

小型坩堝金屬熔化爐是一種緊湊型的熔煉設(shè)備，專(zhuān)為中小規(guī)模金屬加工和回收行業(yè)設(shè)計(jì)。它能夠處理多種金屬?gòu)U料，包括黃銅、紫銅、鋁、鋅等，廣泛應(yīng)用于鑄造、機(jī)械加工、工藝品制造等領(lǐng)域。該設(shè)備采用燃?xì)饧訜岱绞?，具有高效、?jié)能、環(huán)保的特點(diǎn)。