本發(fā)明公開了一種等離子體催化氧化裝置,包括霧化系統(tǒng)(1)、等離子體氧化系統(tǒng)(2)、氣液釋放器(3)、光催化區(qū)(4)、多功能催化氧化區(qū)(5)、沉淀區(qū)(6)和高壓脈沖交流電源(7);本發(fā)明還公開了一種處理廢水的方法:壓縮空氣或氧氣與廢水通過霧化系統(tǒng)(1)后進(jìn)入等離子體氧化系統(tǒng)(2),在加載高壓脈沖交流電源(6)下發(fā)生等離子體氧化過程,實(shí)現(xiàn)有機(jī)污染物氧化降解,通過氣液釋放器(3)將等離子體氣液混合物導(dǎo)入多功能催化氧化區(qū)(5),一部分廢水由出水口(8)排出,產(chǎn)生尾氣由放空口(9)排出,一部分廢水進(jìn)入光催化區(qū)(4)實(shí)現(xiàn)廢水循環(huán)氧化處理,氣液釋放器(3)下部設(shè)置有沉淀區(qū)(6)和排泥口(10)。
聲明:
“等離子體催化氧化處理裝置及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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