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羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料及其制備方法和應(yīng)用

768   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 03:35:54
本發(fā)明中公開了一種羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料及其制備方法和應(yīng)用,該羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料是以蒙脫土為載體,通過表面離子印跡技術(shù)和電子轉(zhuǎn)移活化原子轉(zhuǎn)移自由基聚合技術(shù)在蒙脫土表面嫁接羥肟酸基團(tuán),以金屬離子為模板,乙二醇二縮水甘油醚為交聯(lián)劑,對(duì)蒙脫土表面的羥肟酸基團(tuán)進(jìn)行金屬離子印跡,洗脫模板后制備得到。本發(fā)明的羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料具有選擇性吸附量大、吸附效率高、性質(zhì)穩(wěn)定、無污染、重復(fù)利用性好等優(yōu)點(diǎn),其制備方法具有步驟簡單、操作方便、生產(chǎn)效率高等優(yōu)點(diǎn),將其用于處理重金屬廢水時(shí)具有操作簡單、處理成本低,對(duì)重金屬吸附效果好等優(yōu)點(diǎn)。
聲明:
“羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料及其制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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