本發(fā)明公開的一種基于離子遷移譜技術(shù)的化學(xué)戰(zhàn)劑及工業(yè)有毒氣體探測(cè)儀,其包括外殼和設(shè)置在外殼中的進(jìn)樣口、漂移管、氣路系統(tǒng)和控制系統(tǒng);其中漂移管設(shè)置有電離區(qū)、離子門和漂移區(qū),并在前端設(shè)置有校準(zhǔn)氣進(jìn)氣口,電離區(qū)與離子門之間設(shè)置有進(jìn)樣氣口,后端配置有漂移氣進(jìn)氣口和清洗氣進(jìn)氣口;氣路系統(tǒng)包括校準(zhǔn)氣路、進(jìn)樣氣路、漂移氣路和清洗氣路,控制系統(tǒng)與漂移管的信號(hào)輸出端、校準(zhǔn)氣路、進(jìn)樣氣路、漂移氣路和清洗氣路連接以控制它們工作。本發(fā)明基于離子遷移譜技術(shù),可對(duì)多種化學(xué)戰(zhàn)劑及工業(yè)有毒氣體進(jìn)行探測(cè)和識(shí)別,提供探測(cè)、監(jiān)控兩種使用模式,可對(duì)可疑樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)探測(cè),也能對(duì)特定環(huán)境進(jìn)行定時(shí)持續(xù)監(jiān)控。
聲明:
“基于離子遷移譜技術(shù)的化學(xué)戰(zhàn)劑及工業(yè)有毒氣體探測(cè)儀及其使用方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)