等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置,涉及化學(xué)氣相沉積裝置。設(shè)有沉積薄膜的PECVD裝置和為沉積薄膜提供超高頻振動(dòng)能量的超高頻激振裝置;所述沉積薄膜的PECVD裝置設(shè)有氣體輸送控制裝置、射頻電源、上蓋、噴射支持部、氣體分配板、夾具、收集板、加熱器、控制閥、機(jī)械泵、分子泵、排氣管路、測(cè)溫傳感器、密封圈、激振梁、反應(yīng)室、測(cè)壓傳感器、進(jìn)氣管路、壓力控制器和溫度控制器;所述氣體輸送控制裝置設(shè)有氣體存儲(chǔ)室、安裝開關(guān)、流量閥、氣體混合室、開關(guān)、流量閥和氣體輸出管路;超高頻激振裝置安裝于激振梁的端部,輸出桿與連接環(huán)焊接在一起,連接環(huán)與激振梁螺栓連接。實(shí)現(xiàn)薄膜應(yīng)力在線消除和低應(yīng)力薄膜的快速沉積制造。
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