本發(fā)明通過獲取與外延生長設備相關的一或多種硬件設計參數(shù)和外延工藝參數(shù),將之構成參數(shù)值集合,并基于物理和/或化學理論原理,對參數(shù)間數(shù)學關系進行分析和判定提煉,輔以處理和存儲的系統(tǒng),用圖譜的形式預測外延工藝的一種方法;其中,圖譜通過多個參數(shù)組合取值區(qū)域分別描述反應腔的一或多個物理場、化學場、或者耦合場的多個變化形態(tài)。而且,圖譜中包含用于示出生長有利的合理參數(shù)組合取值區(qū)域的界線。通過多條件集合的“面”技術而非單個條件的“點”技術,定出合理參數(shù)組合的外延工藝窗口。指導研發(fā)或生產(chǎn)工藝運行,避開不利于生長的區(qū)域,從而有效提高生長效率、降低有害沉積(保持腔體干凈、延長維護周期),加快新型設備的成型和量產(chǎn)。
聲明:
“用于指導外延工藝的方法及其系統(tǒng)” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)