一種半導(dǎo)體工藝,適于使用半導(dǎo)體設(shè)備對半導(dǎo)體晶片進行顯影工藝。半導(dǎo)體工藝至少包括下列步驟。在化學(xué)溶液經(jīng)由半導(dǎo)體設(shè)備的噴嘴提供至半導(dǎo)體晶片上的期間,藉由半導(dǎo)體設(shè)備的攝影裝置依序擷取噴嘴的第一圖像及第二圖像。計算第一圖像及第二圖像的分析區(qū)域中化學(xué)溶液所占的比例,以判斷半導(dǎo)體設(shè)備是否異常。另提供一種適于對半導(dǎo)體晶片進行顯影工藝的半導(dǎo)體設(shè)備。
聲明:
“半導(dǎo)體工藝及半導(dǎo)體設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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