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單寧酸-鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極及制備方法

984   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:23:04
本發(fā)明公開了一種單寧酸?鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極及制備方法,屬于材料科學(xué)技術(shù)和化學(xué)領(lǐng)域。本發(fā)明所述的制備單寧酸?鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極的方法包括如下步驟:通過水熱合成法將NiO薄膜沉積到FTO導(dǎo)電玻璃上、通過空氣熱氧化法制備CuO/NiO電極、采用光化學(xué)方法制備NixP/CuO/NiO電極、將NixP/CuO/NiO電極浸入CoCl2溶液10?20min后取出,洗滌;再浸入單寧酸溶液中,調(diào)節(jié)pH為9?10,反應(yīng)0.5?1.5h;反應(yīng)結(jié)束后洗滌、干燥,得到單寧酸?鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極。本發(fā)明所述的單寧酸?鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極的產(chǎn)氫效率高,可以達(dá)到1.77μmol/h以上;穩(wěn)定性良好,在測(cè)試長(zhǎng)達(dá)8000s時(shí),該電極的光電流密度僅比初始值略有下降。
聲明:
“單寧酸-鈷絡(luò)合物修飾的NixP/CuO/NiO光電陰極及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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