本發(fā)明涉及一種基于硅氧烷修飾光致發(fā)光物質(zhì)的壓力敏感涂料及其制備的涂層。所述壓力敏感涂料包括帶有甲氧基
硅烷和/或乙氧基硅烷官能團(tuán)的染料、任選地硅氧烷前驅(qū)體和溶劑。本發(fā)明的壓力敏感涂料的涂布方式簡單、可制備超薄涂層;涂層透明,適用于工作面/測試面周圍空間狹小、光學(xué)成像或光學(xué)測量設(shè)備放置困難的使用環(huán)境,在配合使用透明基底或無基底的情況下,使用透明壓力敏感涂層可擴(kuò)大觀察設(shè)備的擺放范圍,方便實(shí)驗(yàn)裝置的擺放;同時,化學(xué)鍵鍵合染料的方法能夠提高涂層的光穩(wěn)定性,延長涂層使用周期,甚至可提高涂層對壓力的響應(yīng)速度。本發(fā)明可較大的降低壓力敏感涂料對模型形狀、測試區(qū)域、光路布置等的限制,拓寬壓力敏感涂料的應(yīng)用范圍。
聲明:
“基于硅氧烷修飾光致發(fā)光物質(zhì)的壓力敏感涂料及其制備的涂層” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)